在这种情况下，虽然可以用ICP、ICP-MS对高纯硅进行分析,但在预处理过程中必须添加大量HF来使Si*溶解,分析时存在一定难度。使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰,而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高,所以为了分析低浓度的Si,必须去除光学干扰或更换仪器进样系统(雾室、雾化器、中心管、炬管)。
本实验的目的是利用NexION的DRC模式确定分析Si的条件。
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