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目录:牛津仪器(上海)有限公司>>PECVD>> PlasmaPro 800 PECVD

PlasmaPro 800 PECVD
  • PlasmaPro 800 PECVD
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更新时间：2022-11-30 17:49:04浏览次数：432评价

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The PlasmaPro 800 offers a flexible solution for Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) processes on large wafer batches and 300mm wafers, in a compact footprint, open-loading system. The large wafer platen allows for production scale batch processing and 300mm wafer handling. 询价 增加到询价列表 在询价列表中查看此产品

PlasmaPro 800具有460mm直径的工作台，拥有处理整片的300mm晶圆或大批量43 x 50mm（2”）晶圆的能力， 可提供全套量产解决方案。PlasmaPro 800是的市场前列产品。

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