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目录:牛津仪器(上海)有限公司>>ICP Etching>> PlasmaPro 80 ICP

PlasmaPro 80 ICP
  • PlasmaPro 80 ICP
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具体成交价以合同协议为准
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更新时间：2022-11-30 17:46:04浏览次数：256评价

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PlasmaPro 80 ICP是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统，可提供多种刻蚀解决方案。 它易于放置，便于使用，且能够确保工艺质量。直开式设计允许快速的进行晶圆装卸，是科学研究、原型设计和少量生产的理想选择。 该设备通过优化了的电极冷却技术和出色的衬底温度控制来实现高度稳定的工艺结果。 询价 增加到询价列表 在询价列表中查看此产品
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Top dielectric layer removed, exposing four metal layers

    去除顶部介电层，露出四层金属层

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