小型台式 ALD（原子层沉积）工具专为简单的操作和安装而设计，而不会牺牲其性能，用于成本效益型研究与开发。

采用半导体级元件、金属密封线和强大的PLC驱动用户界面，可快速循环和高品质的多组分薄膜，易于维护，可重复和安全运行。

技术参数：

l 占地面积小桌面式ALD系统

l 可容纳直径为 4 /6/8英寸的样品

l 可定制的卡盘(大型和批处理室(3+芯片)可供选择)

l 兼容高温的快速脉冲 ALD 阀，带超快 MFC，用于集成惰性气体吹扫标准

l 全铝腔体，温度范围可达 315°C

l 静态处理模式下提供高曝光

l 7英寸显示屏，带集成PLC控制

选项:定制卡盘/压板，定制异形腔室，真空泵臭氧发生器(AT-03)，瓶加热器，通风前驱体外壳，ALD前驱体集成QCM，手套箱集成，HT套件(前驱体至180°C)，起泡器，12英寸，需要更大尺寸可咨询。升级到等离子体。定制系统。

设备优势

Ø 厂家是ALD领域的专家

Ø 高品质组件（半导体级线路、阀门、金属密封（无水或空气侵入））

Ø 可信赖（PLC控制-无需驱动程序升级，无需附加卡）和可靠（非常容易维护）

Ø 是为实验室技术人员设计的

Ø 小而紧凑的（不占空间）

Ø 小体积室意味着快速沉积和更少的前驱体废物和深入渗透到三维结构

Ø 快速升温（和降温）时间

Ø 化学物质与反应物分离，因此不会沉积在管道，阀门等....

Ø 前驱体和腔体之间的长度短（减少线路堵塞的机会）

Ø 操作简单（150个菜单连同标准配方）

为啥选择Anric Technology???

  世界主流的ALD厂家，如ASM International N.V.， Beneq，Picosun， Oxford Instruments，TEL等，这些大厂专注于工业化的ALD设备。

Anric Technology： 专注于小的迷你的、台式的ALD设备，操作简单，维修经济方便，特别适用于科研用户。

研发者介绍：

Philippe de Rouffignac， Ph.D 毕业于Harvard University，Department of Chemistry，导师Prof. Roy Gordon, 在读博期间就设计开发了几台ALD设备，并在哈佛Center for Nanoscale Systems工作，期间进行了包括CVD/ALD预制器的开发，后出来创办了Anric Technology，专注于迷你和台式用于实验室研究的ALD。