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當(dāng)前位置：深圳秋山工業(yè)設(shè)備有限公司>>常用儀表>>霧化裝置>> LM-1000/PM-H1000/PM-L1000日本RIX新型式濕式霧化裝置G-smasher進(jìn)口
產(chǎn)品型號(hào)LM-1000/PM-H1000/PM-L1000
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地深圳市
更新時(shí)間：2025-05-02 20:57:54瀏覽次數(shù)：661次
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日本RIX新型式濕式霧化裝置G-smasher進(jìn)口
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,能源,電子/電池,電氣,綜合 |
|---|
日本RIX新型式濕式霧化裝置G-smasher進(jìn)口 LM-1000/PM-H1000/PM-L1000 特征介紹
由于不使用任何介質(zhì)，也沒有高壓密封件（消耗品和磨料），因此污染極少。
由于強(qiáng)大的沖擊波在短時(shí)間內(nèi)施加到液滴上，因此對(duì)顆粒的損傷很小。
液滴化的漿料以超音速與碰撞板碰撞，從而可以將顆粒研磨至比空氣噴射磨更細(xì)的粒徑。
漿料流路很寬，因此即使是大顆粒也可以注射而不會(huì)堵塞。
日本RIX新型式濕式霧化裝置G-smasher進(jìn)口 LM-1000/PM-H1000/PM-L1000 規(guī)格參數(shù)
材料G粉碎機(jī)的特點(diǎn)傳統(tǒng)技術(shù)的問題
金屬
（鎳、銀、銅、鐵、鈷等）通過無(wú)損傷和
無(wú)堵塞冷卻
抑制氧化變形
、發(fā)熱
引起的氧化
復(fù)合顆粒無(wú)損傷顆粒開裂和
涂層剝落
磁粉無(wú)損傷由于損壞而導(dǎo)致磁力降低
氧化鈦/二氧化硅無(wú)污染污染/設(shè)備磨損
吞吐量3～10.8L/h
（流量根據(jù)漿料運(yùn)動(dòng)粘度、比重、分散狀態(tài)而變化）
設(shè)備外形尺寸650（寬） ? 650（后） ? 965（高）毫米
設(shè)備重量約100公斤
氣壓/所需流量0.6MPa?0.5?/min
（使用壓縮機(jī)潔凈空氣）
吞吐量
4.8～30L/h
（流量根據(jù)漿料的運(yùn)動(dòng)粘度、比重、分散狀態(tài)而變化。）
設(shè)備外形尺寸
1200（寬） ×850（后）×2050（高）mm
設(shè)備重量
約400公斤
氣壓/所需流量
0.6MPa?1.5?/分鐘
（使用壓縮機(jī)潔凈空氣）
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