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寫真化學(xué)用于沉積拋光和蝕刻過程中測厚儀
  • 寫真化學(xué)用于沉積拋光和蝕刻過程中測厚儀

貨物所在地:北京北京市

地: 日本

更新時間:2024-11-02 15:14:05

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( 聯(lián)系我們,請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>

寫真化學(xué)用于沉積拋光和蝕刻過程中測厚儀,反射涂層厚度監(jiān)測儀是一種光學(xué)干涉反射光譜涂層測厚儀,它使用微型反射探頭,可應(yīng)用于從實驗室級別到生產(chǎn)過程中的在線檢查的所有情況。 它具有出色的可維護性,可用于集成到工藝設(shè)備和生產(chǎn)線管理應(yīng)用中。最多可同時測量 9 種類型的透明膜。它具有出色的可維護性,可用作工藝設(shè)備或生產(chǎn)線管理應(yīng)用的集成。

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反射涂層厚度監(jiān)測儀是一種光學(xué)干涉反射光譜涂層測厚儀,它使用微型反射探頭,可應(yīng)用于從實驗室級別到生產(chǎn)過程中的在線檢查的所有情況。 它具有出色的可維護性,可用于集成到工藝設(shè)備和生產(chǎn)線管理應(yīng)用中。
最多可同時測量 9 種類型的透明膜。
它具有出色的可維護性,可用作工藝設(shè)備或生產(chǎn)線管理應(yīng)用的集成。
例如,在沉積、拋光和蝕刻過程中,它可以用作在線監(jiān)視器或終點監(jiān)視器(終點檢測傳感器),從而實現(xiàn)薄膜厚度的實時監(jiān)控(實時監(jiān)控)。
它還可用于評估多晶硅的結(jié)晶度多孔薄膜的密度。

設(shè)備配置


光束形狀

探針到被測樣品的距離為 30 mm 時的模擬結(jié)果

照明區(qū)域 測量區(qū)域

測量目標

  • 半導(dǎo)體
    半導(dǎo)體

  • 太陽能電池
    太陽能電池

  • 平板顯示器
    平板顯示器

  • 玻璃(涂層)和薄膜
    玻璃(涂層)和
    薄膜





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