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寫真化學(xué)光學(xué)干涉反射光譜涂層測厚儀
  • 寫真化學(xué)光學(xué)干涉反射光譜涂層測厚儀

貨物所在地:北京北京市

地: 日本

更新時間:2024-11-02 15:05:45

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寫真化學(xué)光學(xué)干涉反射光譜涂層測厚儀,它使用微型反射探頭,可應(yīng)用于從實驗室級別到生產(chǎn)過程中的在線檢查的所有情況。 它具有出色的可維護性,可用于集成到工藝設(shè)備和生產(chǎn)線管理應(yīng)用中。最多可同時測量 9 種類型的透明膜。

反射涂層厚度監(jiān)測儀是一種光學(xué)干涉反射光譜涂層測厚儀,它使用微型反射探頭,可應(yīng)用于從實驗室級別到生產(chǎn)過程中的在線檢查的所有情況。 它具有出色的可維護性,可用于集成到工藝設(shè)備和生產(chǎn)線管理應(yīng)用中。
最多可同時測量 9 種類型的透明膜。
它具有出色的可維護性,可用作工藝設(shè)備或生產(chǎn)線管理應(yīng)用的集成。
例如,在沉積、拋光和蝕刻過程中,它可以用作在線監(jiān)視器或終點監(jiān)視器(終點檢測傳感器),從而實現(xiàn)薄膜厚度的實時監(jiān)控(實時監(jiān)控)。
它還可用于評估多晶硅的結(jié)晶度多孔薄膜的密度

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推薦環(huán)境條件

溫度: 設(shè)定點在 18 ~ 45°C 范圍內(nèi)
長期變化: ±2.0°C/24 小時或更長時間(參考設(shè)定點)
短期變化: ±1.0°C/1 小時×1 周期(參考設(shè)定點)
濕度

:45% ± 20%(無冷凝)




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