聯(lián)系電話
深圳市京都玉崎電子有限公司
中級會員·3年
- 聯(lián)系人：
- 袁蘭香
- 電話：
- 13717032088
- 手機(jī)：
- 13717032088
- 傳真：
- 86-755-28578000
- 地址：
- 龍華新區(qū)梅龍大道906號創(chuàng)業(yè)樓
- 個性化：
- www.cucudi.com
- 網(wǎng)址：
- www.tamasaki.cn
掃一掃訪問手機(jī)商鋪
1）用某種離子在固定電壓下去轟擊不同的靶材，s會隨元素周期表的族而變化。反之，靶材種類確定，用不同種類的離子去轟擊靶材，s也隨元素周期表的族作周期性變化。
2）S隨入射離子的能量（即加速電壓V）的增加而單調(diào)地增加。不過，V有臨界值（一般為10V）。在10V以下時，S為零。當(dāng)電壓≥10KV時，由于入射離子會打入靶中，S反而減少了。
3）對于單晶靶，s的大小隨晶面的方向而變化。因此，被濺射的原子飛出的方向是不遵守余弦定律的，而有沿著晶體的最稠密面的傾向。
4）對于多晶靶，離子從斜的方向轟擊表面時，S增大。由濺射飛出的原子方向多和離子的正相反方向相一致。
5）被濺射下來的原子所具有的能量比由真空蒸發(fā)飛出的原子所具有的能量（~0.1eV）大1~2個數(shù)量級。
混入薄膜中的氣體分子：用濺射法制作的Ni薄膜時，當(dāng)濺射電壓在100V以下時，Ar幾乎沒有混入。可是，一到100V以上，薄膜中的Ar原子數(shù)急劇增加。
