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深圳市京都玉崎电子有限公司

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供应简介

液晶显示器件、触摸屏、半导体硅芯片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料
臭氧浓度检测仪用UV灯管
SEN日森小王子冷阴极笔式灯 365nm 灯管

详细介绍

SEN日森小王子冷阴极笔式灯 365nm 灯管

SEN日森
紫外线清洗
紫外光清洗的工作原理
紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度"。更详尽的讲：UV光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量,当这些光子作用到被清洗物体表面时,由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力,并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子，这就是所谓光敏作用?？掌械难跗肿釉谖樟?85nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用,臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下,物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表面，清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。清洗时，使基板治湿性向上。玻璃基板是以滚轮方式输送，上方装置低压水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累积紫外线能量愈多，其表面水接触愈小，成反比关系。一般STN-LCD制作过程中，需求的玻璃基板累积紫外线能量为300nj/cm2(2537nm)以上。而彩STN-LCD及彩色滤光片制作过程中，要求的玻璃基板累积紫外线能量600mj/cm2(2537nm)。

产品特点：

UV光清洗机PL16-110

1.本装置是为了运用短波长紫外线进行表面处理、干式清洗的效果而作的试验机。

2.试验台到光源使用特定的升降机可以任意改变高度，照度可以使用照度计测定。

3.抽出式试验台，旋转式照射台等多种姊妹产品供您选择。

产品描述：

桌上型表面处理装置其主要原理为紫外线灯发出的185nm波长和254nm波长具有很高的能量，高于大多数有机物的结合能量。

由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成离子，流离态原子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。

空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。

氧原子具有氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水和二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，清除物体表面的污染物。

规格：

适用范围液晶显示器件、触摸屏、半导体硅芯片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅芯片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等使用紫外线清洗时要注意以下几个方面：

（1）污垢中的无极成分或处理后的灰分会残留在物体表面，因此需要采用相应的办法进一步清除，如加装真空除尘或与超声波干洗配套使用。

（2）处理时，当清洗对象表面与照射光源距离稍远时，产生的臭氧会自动分解失去作用，一定要注意清洗表面与光源的距离，也就是注意平台或传送带上工件的高度或厚度。

（3）这种处理方法要求紫外线能透过清洗对象表面，对有立体结构的清洗对象不太适合，只能清洗表面结构的物体。

（4）由于需防止臭氧扩散对人体造成损害，需要在封闭装置中进行清洗。

（5）由于臭氧是通过氧化反应去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用这种方法处理。

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