阴离子交换膜是一类含有碱性活性基团，对阴离子具有选择透过性的高分子聚合物膜，也称为离子选择透过性膜。阴离子交换膜由以下三个部分组成：
高分子基体(基膜)：带固定基团的聚合物主链。
活性基团：荷正电的活性基团(即阳离子)，常见的活性交换基团有-NH3+、-NR2H+或者-PR3+等。
自由移动的阴离子：位于活性基团上，可以通过膜进行传输。
阴离子交换膜的制备方法通常包括以下几个步骤：
原料准备：选择合适的聚合物原料，如SEBS颗粒等，并与其他反应物反应生成具有氯甲基化的中间产物。
铸膜：将中间产物溶于适当的溶剂中，然后置于模具中挥发铸膜。
离子化：将铸好的膜浸泡在具有胺成分的溶液中进行反应，通过清洗得到目标阴离子交换膜。
性能特点：
选择透过性：阴离子交换膜在液相中选择性地传输阴离子，将其与液相中的其他离子(特别是阳离子)进行分离。
阻隔阳离子：虽然阴离子交换膜主要用于选择性传输阴离子，但它们也能够阻隔或减少阳离子的穿透。这种阻隔能力取决于膜的材料、结构、孔隙度以及阳离子的大小、电荷等因素。
化学稳定性：阴离子交换膜通常具有良好的化学稳定性，能够在多种化学环境中保持稳定的性能。
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