日本電子JEOL場發(fā)射透射電鏡F200詳細說明：

日本電子JEOL場發(fā)射透射電鏡F200JEM-F200的外觀和操作模式基于“智能化”的理念進行了全新的設計。全新的人機界面使得用戶可以專注于電鏡觀察和分析工作。得益于日本電子在電子光學領域多年的積累，新設備采用了球差電鏡的高穩(wěn)定度的設計理念，該設備的機械穩(wěn)定度和電氣穩(wěn)定度得以大大改善，從而可以保證更加出色的性能。

JEM-F200 配置肖特基場發(fā)射電子槍，或者冷場發(fā)射電子槍*，高亮度和高穩(wěn)定性的場發(fā)射電子槍可以極大提高觀察和分析效率。

對于冷場電子槍，可以獲得更高亮度和更小能量發(fā)散度的電子源，亮度高于8x108A/cm2·sr，能量發(fā)散度可以低至0.3eV，在圖像質(zhì)量和分析效果上更勝yichou，更適合行高能量分辨率的EELS分析，可以對樣品進行精細的化學結(jié)合態(tài)分析。

JEM-F200上引入了全新的四級聚光鏡設計，可以滿足日益增加的各種應用。在這個全新系統(tǒng)的支持下，前兩級聚光鏡可以控制束斑尺寸和束流強度，其形成的電子東交叉點可以固定在特定的位置，然后通過后兩級聚光鏡實現(xiàn)照明區(qū)域和匯聚角度的控制。除此外，在TEM模式成像中非常重要的平行光照明模式可以像傳統(tǒng)電鏡一樣輕松實現(xiàn)。該系統(tǒng)的使用可以輕松得到高質(zhì)量的明場和暗場圖像。