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晶圓制造過程控溫Chiller應(yīng)用案例

時間:2025/2/27閱讀:482
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  晶圓制造過程控溫Chillerr在晶圓制造中承擔(dān)關(guān)鍵溫控功能,其應(yīng)用覆蓋光刻、刻蝕、薄膜沉積等核心工藝環(huán)節(jié)。以下是具體應(yīng)用案例與技術(shù)細節(jié)分析:

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  一、光刻工藝溫度控制

  1.光刻膠恒溫管理:晶圓廠采用Chiller為ArF光刻機提供冷卻,通過維持光刻膠溫度在23±0.1℃,使光源的曝光精度提升。

  2.鏡頭熱變形補償:在EUV光刻機中,晶圓制造過程控溫Chiller通過雙循環(huán)系統(tǒng)(-30℃冷水+40℃熱油)同步冷卻光學(xué)模塊,將鏡頭熱膨脹系數(shù)控制,實現(xiàn)節(jié)點套刻精度提升。

  二、刻蝕工藝動態(tài)控溫

  1.等離子體刻蝕溫度優(yōu)化:某存儲芯片廠在3D刻蝕中,使用Chiller將反應(yīng)腔溫度穩(wěn)定在-20℃至80℃可調(diào)范圍,使刻蝕均勻性提升。

  2.濕法刻蝕液溫控:在硅槽刻蝕工藝中,晶圓制造過程控溫Chiller維持氫氟酸混合液溫度在25±0.3℃,刻蝕速率標(biāo)準(zhǔn)差下降。

  三、薄膜沉積工藝溫控

  1.ALD原子層沉積:芯片制造中,晶圓制造過程控溫Chiller為ALD設(shè)備提供40℃恒溫環(huán)境,使高介電薄膜厚度偏差更小。

  2.CVD反應(yīng)腔冷卻:在SiN薄膜沉積中,采用雙級壓縮Chiller,將反應(yīng)腔壁溫控制在80±1℃,薄膜應(yīng)力均勻性提升?!?/span>

  四、清洗與離子注入工藝

  1.超純水冷卻系統(tǒng):在晶圓單片清洗機中,晶圓制造過程控溫Chiller維持超純水溫度在22±0.2℃,減少DI水表面張力波動,使顆粒殘留降至。

  2.離子注入機靶材冷卻:采用-40℃低溫Chiller冷卻硅靶材,使硼離子注入深度偏差優(yōu)化。

晶圓制造過程控溫Chiller的技術(shù)迭代正推動晶圓制造向更好的方向發(fā)展,成為半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化進程中的突破點之一。


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