湖北2吨半导体工业纯水设备工艺

一、预处理阶段

1. 多介质过滤器

• 采用石英砂、无烟煤、活性炭等多层滤料，有效去除水中的悬浮物、胶体、有机物及部分重金属离子。

• 通过自动反冲洗装置，定期对过滤器进行反冲洗，恢复过滤性能，保证水质稳定。

2. 软化器

• 利用钠型阳离子交换树脂，去除水中的钙、镁离子，降低原水硬度。

• 通过软化器自动控制阀，根据水质硬度及流量自动进行再生，确保持续稳定的软水输出。

3. 精密过滤器

• 采用5微米孔径的滤芯，进一步拦截水中的细微颗粒、微生物及碎片，保护后续设备的正常运行。

二、反渗透（RO）系统

1. 高压泵

• 为反渗透膜提供足够的进水压力，确保水分子能够透过反渗透膜。

2. 反渗透膜组件

• 选用高脱盐率的聚酰胺复合膜，有效去除水中的溶解性盐类、有机物、细菌、热源等杂质。

• 通过一级或二级反渗透设计，提高水质纯度，满足半导体工业的基本用水要求。

3. 反渗透清洗系统

• 定期对反渗透膜进行化学清洗，去除膜表面的污垢和堵塞物，恢复膜的通透性和脱盐率。

三、连续电除盐（EDI）系统

1. EDI?？?/span>

• 结合离子交换树脂和电渗析技术，实现水中离子的深度去除。

• 在电场作用下，离子透过离子交换膜迁移，同时水分子在电场作用下产生氢离子和氢氧根离子，实现连续的离子交换和再生过程。

2. 电源及控制单元

• 为EDI模块提供稳定的直流电源，通过智能控制系统实现对EDI运行的监控和调节。

3. 水质监测与循环系统

• 实时监测EDI产水水质，如电导率、硅含量等，确保水质符合半导体工业的超纯水标准。

• 通过循环泵和流量计，实现EDI系统的稳定运行和水质的持续优化。

四、抛光与杀菌阶段

1. 紫外线杀菌器

• 利用紫外线破坏微生物的DNA结构，有效杀灭水中残留的细菌、病毒等微生物，确保水质无菌。

2. 终端抛光混床

• 采用核子级混床树脂，进一步去除水中残留的离子和有机物，提高水质纯度。

• 通过自动再生系统，保持混床树脂的交换容量和使用寿命。

五、控制系统与监测仪表

1. PLC可编程逻辑控制器

• 实现对整个纯水设备的自动化控制，包括预处理、反渗透、EDI、抛光等各个阶段的运行管理和故障报警。

2. 水质在线监测仪表

• 实时监测原水和产水的水质参数，如电导率、pH值、温度、流量、硅含量等，为设备运行提供数据支持。

3. 远程监控系统

• 通过网络连接，实现对设备远程监控和数据分析，方便用户及时了解设备运行状态和维护需求。

湖北2吨半导体工业纯水设备，专为半导体行业高精度用水需求设计。该设备采用预处理、反渗透、EDI连续电除盐等核心工艺，确保产出水质达到半导体制造所需的高纯度标准。预处理阶段通过多级过滤与软化，去除水中悬浮物、有机物及硬度离子，?；ず笮璞浮７瓷富方诶冒胪改ど疃韧蜒?，大幅降低水中溶解性固体含量。