HB2DGHL雙模塊多用途干式金屬浴操作特點：
微處理控制器：帶有外置RTD探頭的PID溫度控制裝置，使溫度穩(wěn)定性的變化小于± 0.1°C，使溫度均勻性變化也小于± 0.1°C。使樣品快速和升溫。以± 0.1°C增量調節(jié)溫度。LED顯示屏：通過觸摸平板進行控制，并帶有易于讀取的獨立溫度和時間LED顯示屏。始終提供可重復和的結果，在實驗室工作臺即可輕松查看。顯示設定值與實際溫度。定時器將顯示已用時間，也可將其編程為用戶定義的限值，從而在時間達到零時自動關閉裝置。顯示屏將顯示上一次使用的設置，即使斷電后也可顯示。

溫度校準模式：允許用戶根據外部溫度設備校準裝置。

工作條件：
裝置可在18-33°C，相對濕度為20%-80%的非冷凝條件下
運行。

HB2DGHL雙模塊多用途干式金屬浴技術參數：

應用領域：
等溫培養(yǎng)、酶反應、免疫分析、核酸變性和諸多其他實驗室流程。