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Benchtop Plasma Cleaner小型等离子清洗系统PDC32G和PDC002HPC系列小型等离子清洗系统是台式等离子处理设备领域当之无愧的者，我们...

Benchtop Plasma Cleaner小型等离子清洗系统PDC32G和PDC002HPC系列小型等离子清洗系统是台式等离子处理设备领域当之无愧的主导者，...

匀胶显影机(英文名：Developing) 产地：美国一、产品概述：650型匀胶显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。

M-HP 200热板用于烘烤和回火加热晶圆片或基板。该热板适用于直径为8英寸的晶圆片或6英寸 x6英寸的衬底。内置?？榭汕崴捎糜谑焦ぷ魈?。工艺参数（温度，加热...

适用于3英寸晶圆的划片划片机 100是一款*的设备，设计用于划分精密模具，例如GaAs和硅芯片?；?100非常灵活，使用划线和断裂顺序，使成品模具保持清洁，...

原子层沉积（Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但...

紫外臭氧清洗工作原理：清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或...

这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。

P200L半自动探针台?200毫米半自动晶圆探针台 。

真空快速退火炉AS-OneAS-One是一种通用的RTP系统，可用于开发快速热退火和快速热CVD工艺。可以搭配分子泵实现高真空下热处理工艺。温度1500 ℃，升...

品牌：恩科优（N&Q）型号：NXQ400-8产地：美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统*的操作性...

品牌：恩科优（N&Q）型号：NXQ800-6产地：美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q8000系列光刻机是以自动系统为主。该系统*的操作性，...

Dymax 5000-EC 系列紫外光固化面光源适用于固化光强需求高、固化速度高的紫外光胶粘剂、涂层和油墨。

PicoMaster 200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界的成套全息设计软...

PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结...

RIE反应离子刻蚀机NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及1...

Plasma Cleaner等离子清洗机NPC-4000（M）等离子清洗机概述：NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶...

NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到可达12...

NTE-4000（M）热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的...

NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统，用于的无损兆声清洗?？梢允视糜谝资芩鸬拇及富蛭尥及傅幕?，包含带?；つさ难谀０?。为了在确保不损伤...