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晶間腐蝕儀原理:

晶間腐蝕是金屬局部腐蝕的一種，通常出現(xiàn)于不銹鋼、鋁合金、黃銅和鎳基合金等材料中。晶間腐蝕是沿著金屬晶粒間的分界面向內(nèi)部擴(kuò)展的腐蝕。晶間腐蝕的原因是晶粒表面和內(nèi)部間化學(xué)成分的差異以及晶界雜質(zhì)或內(nèi)應(yīng)力的存在。

晶間腐蝕會破壞晶粒間的結(jié)合，大幅降低金屬的機(jī)械強(qiáng)度。晶間腐蝕發(fā)生后，金屬和合金的表面雖然仍保持一定的金屬光澤，看不出被破壞的跡象，但晶粒間結(jié)合力顯著減弱，力學(xué)性能惡化。由此可見，晶間腐蝕是一種很危險的腐蝕。本儀器是專用于評價材料的晶間腐蝕性能的儀器。

產(chǎn)品簡介KMT-4晶間 腐蝕儀是專門應(yīng)用于不銹鋼的晶間腐蝕的專用設(shè)備，用于檢驗(yàn)各種類型的不銹鋼、鋁合金等材料在特定的溫度和腐蝕試劑下晶間腐蝕的狀況，從而判定材料的化學(xué)成分、熱處理和加工工藝是否合理。KMT-4晶間 腐蝕儀滿足國標(biāo)GB/T 4334-2008。

KMT-4晶間 腐蝕儀由加熱部分、控制部分以及冷卻部分組成。設(shè)備配有四個加熱底座，可同時對四個燒杯進(jìn)行加熱，溫度可通過控制部分任意設(shè)置。水蒸氣通過冷卻后可以自動回流到燒杯內(nèi)，從而減少因水汽蒸發(fā)引起的試劑濃度變化。工作時，可將處理后試樣按照上述方法放入燒杯，配制符合標(biāo)準(zhǔn)要求的試劑，將溫度調(diào)整到規(guī)定溫度，加熱到規(guī)定時間后取出試樣即可。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1.KMT-4晶間 腐蝕儀滿足國標(biāo)GB/T 4334-2008中的試驗(yàn)(包含A法(選件))。

2. PLC和PID控制，水溫始終控制在設(shè)定溫度，實(shí)現(xiàn)設(shè)定溫度下長時間的腐蝕過程，系統(tǒng)穩(wěn)定可靠。

3.觸摸屏顯示操作界面，操作簡單、參數(shù)設(shè)定方便直觀。

4.可同時腐蝕4個試樣（試樣個數(shù)可定制）。

5.無須外部水源(選件)，循環(huán)冷卻水控制熱酸液自動回流至燒杯，減少酸液濃度變化。

6.冷卻水不足或者發(fā)生故障時，系統(tǒng)自動報警并停止加熱。

7.假如突發(fā)停電后再來電后，腐蝕試驗(yàn)繼續(xù)進(jìn)行，腐蝕時間在停電前的時間計(jì)數(shù)上繼續(xù)累記計(jì)時。

8.晶間腐蝕儀的總功率2000W。

9.每個單獨(dú)工位的功率為500W，獨(dú)立控制，方便操作。一般設(shè)置在280℃-320℃左右，溶液就沸騰了，然后可以開始降溫，在240℃-260℃之前溶液一直是沸騰的即可，較高溫度可達(dá)到400℃。

10. 遠(yuǎn)程手機(jī)WIFI實(shí)時監(jiān)控（選件），無需值守。

11.遠(yuǎn)程手機(jī)短信監(jiān)控（選件），無需值守。

12.酸霧處理柜（選件）

標(biāo)準(zhǔn)配置：

選配件：

l 自動循環(huán)水系統(tǒng) ICT-W

無需外接水源，水溫自動控制，水量自動檢測，無水停機(jī)并報警，實(shí)驗(yàn)更穩(wěn)定。

遠(yuǎn)程監(jiān)控系統(tǒng) ICT-M

在網(wǎng)絡(luò)環(huán)境下，用手機(jī)實(shí)時遠(yuǎn)程檢查運(yùn)行情況和控制設(shè)備運(yùn)行。

遠(yuǎn)程手機(jī)短信監(jiān)控

在無網(wǎng)絡(luò)環(huán)境下，通過手機(jī)短信遠(yuǎn)程檢查運(yùn)行情況和控制設(shè)備運(yùn)行。

晶間 腐蝕儀敏化實(shí)驗(yàn)-A法套件ICT-A

用于進(jìn)行晶間 腐蝕儀敏化實(shí)驗(yàn)-A法用全套裝置

酸霧處理柜

該柜帶酸霧探測裝置，當(dāng)有酸霧溢出時，自動打開酸霧處理系統(tǒng)，酸霧經(jīng)過濾后的空氣被排出到室外。