目录:沈阳科晶自动化设备有限公司>>DIY>>溅射镀膜类>> HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控溅射头
| 产地类别 | 国产 |
|---|
1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD主要适用于我公司制造的VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪、VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪，该磁控溅射头可安装直径为1"的靶材?？捎胫绷鳌⒙龀逯绷骱蜕淦档缭聪嗥ヅ?，因此可溅射各种靶材，如金属靶材（如金、银、铜等材料）、绝缘靶材（如陶瓷靶材、氧化物靶材、聚四氟乙烯靶材等）、磁性靶材、非磁性靶材等。且采用高真空的结构设计，可提高镀膜质量。该溅射头配装有环形NdFeB永磁体在溅射头上，以保证溅射镀膜的效率和薄膜在样品表面分布的均匀性。
产品型号 | 1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD |
主要特点 | 1、采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作。 2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均匀分布。 3、磁体表面涂有保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命。 4、标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配。 5、安装采用标准真空接头，便于操作。 6、靶材更换较为简单，无需调整溅射头的高度。 7、配有铜靶1块。 |
技术参数 | 1、溅射头直径：Φ46.3mm 2、所用靶材：直径1"±0.02"（25.4mm），zui大厚度1/8"（3mm） 3、磁环：NdFeB稀土永磁体 4、柄杆直径：外径3/4" 5、电路接头：标准HN型接头，可与DC和RF电源相匹配 6、所需功率：DCzui大250W，RFzui大100W 7、阴极溅射电流：zui大3A 8、阴极溅射电压：200V-1000V 9、工作压力范围：1mtorr-1torr 10、溅射厚度均匀性：采用磁控溅射在氧化非晶硅片上沉积一个20nm的薄膜，直流功率150W，真空环境 10mtorr，1"铜靶，与基片距离75mm 11、水冷却：水管接头为外径0.25"快插头，所需水流量1/2GPM，进水温度<20℃ 12、高真空快速接头：为赠送品，数量1个，内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装 孔直径为1"，真空腔体的壁厚不得大于1" 13、倾斜装置：溅射头相对于柄杆zui大可倾斜±45?，设有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度 |
产品规格 | 尺寸：14"（355.6mm）；重量：1.36kg |
可选配件 | 1、循环水冷机，流量为16L/min，水箱容积为6L。 2、100W小型手动匹配型射频电源RF-100-LD，可自行搭建溅射镀膜仪。 |
主要应用 | 在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，应用如下： 薄膜涂覆、半导体器件、磁记录介质、超导薄膜、量子计算器件、MEMS、生物传感器、纳米技术、超晶格、颗粒 膜、记忆合金、组合薄膜沉积、光学薄膜 |
20
化工仪器网