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設(shè)備特點：

自動顯影機采用隔斷式結(jié)構(gòu)，電液分離，保障使用安全；

顯影采用噴淋模式，噴頭噴霧顯影，30秒顯影結(jié)束，時間短，用液少；

可使用多種液體同時或接連操作，多噴頭，儲液罐相互獨立，適用范圍廣，通用性強。

企業(yè)推出了高精度納米級3D打印設(shè)備、超快激光加工中心、無掩膜直寫光刻設(shè)備三大系列及多款光刻膠產(chǎn)品其中自主研發(fā)的商用納米級三維激光直寫光刻系統(tǒng)，可實現(xiàn)70納米精度的三維結(jié)構(gòu)加工。

【主要產(chǎn)品】

三維微納加工/納米3D打印設(shè)備 、超快激光微納加工中心、無掩膜直寫光刻設(shè)備