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沃爾福(上海)實業(yè)有限公...

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沃爾福2000℃真空燒結爐介紹

閱讀:1398      發(fā)布時間:2023-3-24
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沃爾福2000℃真空燒結爐采用石墨加熱,加熱溫度可達2000℃。


2000℃真空燒結爐可在同一爐體內(nèi)實現(xiàn)真空、脫脂、預燒結,生產(chǎn)工序一次性完成,較好的提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質量??蓪嵤┰跉鍤?、氮氣和還原性氣分保護下低壓力燒結,減少元素揮發(fā)損失。


一、主要應用領域

1、硬質合金、CIM、MIM等可進行脫蠟,脫氣,燒結及連續(xù)處理。

2、非氧化物系列陶瓷,氮化硅,碳化硅,可進行脫蠟,脫氣,燒結及連續(xù)處理。

3、石墨,脫氣,提純的連續(xù)處理。


二、產(chǎn)品特點

1、根據(jù)爐溫高低和工藝要求,采用石墨發(fā)熱體及隔熱屏。發(fā)熱體可分成多區(qū)布置;各區(qū)獨立控溫,可編程PID調(diào)節(jié)溫度精確均勻。

2、采用石墨加熱元件、石墨氈隔熱層,設計溫度可達2200℃,加熱溫度均勻性高,壽命長。

3、充氣流量控制,爐內(nèi)壓力控制裝置,實現(xiàn)微負恒壓燒結,抑制金屬揮發(fā)損失,改善產(chǎn)品致密性及質量。

4、具有安全互鎖、故障診斷和異常報警等功能。


三、技術參數(shù)

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