GVC-2000手套箱鍍電極專用磁控濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。可用于純氬、純氮環(huán)境，使樣品免受氧氣、水蒸氣或其他污染。助力新型電池研究;提供全套解決方案及交鑰匙服務(wù)。
北京格微儀器有限公司長(zhǎng)期致力于打造以用戶體驗(yàn)為中心的材料表征領(lǐng)域、材料表面改性等儀器設(shè)備研發(fā)制造，公司總部位于北京海淀中關(guān)村，有多名多年從事真空技術(shù)、電子光學(xué)、離子光學(xué)、表面物理、材料制備等技術(shù)人員聯(lián)合發(fā)起，團(tuán)隊(duì)全部為碩士以上學(xué)歷或高級(jí)職稱，具備專業(yè)的表面分析、結(jié)構(gòu)分析、原位分析等應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)，在科研、產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域，沉浸多年，具備獨(dú)立設(shè)計(jì)、項(xiàng)目承擔(dān)、生產(chǎn)制造等綜合能力。當(dāng)前聚焦于具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)并具備國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的電子顯微鏡樣品制備設(shè)備，并在高校院所和產(chǎn)業(yè)單位得到青睞。
手套箱鍍電極專用磁控濺射儀(手套箱鍍電極)GVC-2000自動(dòng)化程序控制，一鍵式操作，讓鍍膜更加高效。該設(shè)備采用觸摸控制，外置泵組設(shè)計(jì)，采用平面磁控濺射靶設(shè)計(jì)，從而使試樣在熱效應(yīng)最小的條件下得到濺射效果。
磁控濺射儀(手套箱鍍電極)GVC-2000為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控射的原理是,在電場(chǎng)內(nèi)在疊加一個(gè)磁場(chǎng),這樣電子在疊加場(chǎng)內(nèi)做旋運(yùn)動(dòng),行程很長(zhǎng),每個(gè)電子電離的氣體分子比直流多很多很多,所以可以在低電壓下,有較好的高空度。射產(chǎn)生同樣的效果。但是因?yàn)榇趴刂笨斩认鄬?duì)高,所以膜的粒小,膜層著力好,吧材的利用率也高。在直流射過程中,樣品的溫升主要來自于負(fù)商子在電場(chǎng)作用下對(duì)樣品的發(fā)擊,在磁控射中,負(fù)離子都被場(chǎng)束縛了,所以基本沒有對(duì)樣品的轟擊,所以溫升基本沒有,很適合溫度敏感性的樣品制備。
GVC-2000手套箱鍍電極專用磁控濺射儀可用于：
1、純氬、純氮環(huán)境，使樣品免受氧氣、水蒸氣或其他污染。
2、助力新型電池研究。
3、提供全套解決方案及交鑰匙服務(wù)。
技術(shù)參數(shù)：
1、濺射靶頭采用平面磁控靶設(shè)計(jì)；
2、系統(tǒng)采用單片機(jī)等微處理器控制，全數(shù)字顯示；
3、彩色液晶屏顯示，屏幕不小于5英寸；
4、最大濺射電流不小于45mA，最小濺射電流不大于5mA，步進(jìn)量為1mA；
5、濺射真空度可任意設(shè)定，且最小調(diào)節(jié)量0.1Pa；
6、可存儲(chǔ)不少于5種靶材的工作參數(shù)；
7、最長(zhǎng)濺射時(shí)間不小于600秒；
8、具備電流保護(hù)和真空保護(hù)功能，在電流過大、真空度較差時(shí)保證設(shè)備安全；
9、極限真空優(yōu)于1Pa；
10、可實(shí)時(shí)顯示靶材使用時(shí)間和設(shè)備工作時(shí)間；
11、可用實(shí)時(shí)曲線顯示濺射電流和真空度。
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