磁場退火高溫爐 是由升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，Labview控制軟件，電磁鐵，高精度雙性恒溫電源，分子泵組，水冷機組共同組成的一套反饋調節(jié)的加熱系統(tǒng)。

該高溫磁場加熱爐系統(tǒng)是由分子泵組中的機械泵（干泵）先對真空腔體（樣品腔）進行粗抽，達到可以開啟分子泵的限真空時，在開啟分子泵進行高真空的抽取，達到客戶所需的真空度。打開軟件，通過在軟件中輸入需要的磁場值和溫度值，通過閉循環(huán)反饋調節(jié)，使設備內樣品的溫度自動控制并穩(wěn)定在某一個溫度值，軟件可以按照用戶給定的實驗條件完成實驗。

磁場控制：用戶可以直接通過軟件設定所需要的磁場大小，由高精度高斯計讀取實際磁場值，再將實際讀出的磁場值反饋給高精度恒流電源，通過電源內部軟件處理后，直接由控制高精度恒流電源的輸出電流，從而實現(xiàn)用戶所需要的磁場，并實時顯示在軟件上；

溫度控制：通過在軟件上人機交互界面直接設置所需要的溫度值，計算機軟件處理后指令到達高溫爐加熱控制器。控制器通過溫度傳感器（熱電偶）讀出樣品區(qū)的實際溫度值，并通過其內部設置的模糊控制PID調節(jié)輸出電流的大小，總而使溫度值穩(wěn)定在某一精度范圍內，從而實現(xiàn)用戶所需要的不同溫度。

真空環(huán)境：通過分子泵組獲得真空環(huán)境，由高真空全量程真空計顯示并監(jiān)控，并實時的將檢測結果傳遞給計算機。

退火過程：在強磁場（或無磁）環(huán)境下對樣品進行加熱，加熱到一定溫度（用戶需要自己設定）并保持在該溫度，再持續(xù)加一個磁場（可隨時變化），達到用戶的目的后，關閉磁場，關閉加熱環(huán)境，冷卻到室溫。

樣品環(huán)境：高溫磁場加熱爐可以將被測樣品同時置于強磁場、高真空、高溫環(huán)境中。同時也可以單獨或任意組合這三種實驗環(huán)境，滿足不同樣品在不同環(huán)境下的測試要求。

適應范圍：需在高溫、高真空、強磁場環(huán)境中加熱或去磁的各種軟磁性材料。

主要技術指標：

※ 真空室及主要零部件材質均為304無磁不銹鋼；

※ 采用的真空獲得系統(tǒng)為分子泵組；真空測量為數(shù)顯全量程真空計；

※ 真空度及漏率：① 真空室限真空度6′10^-5Pa(冷態(tài))；②漏率<10^-11Pa.L/s，真空度隨著溫度變化，會出現(xiàn)波動，屬于正常情況；

※ 在室溫到900度，升溫速率優(yōu)于100K/min，高溫加熱溫度1000℃；控溫精度：±1℃；

※ 加熱時，加熱絲被封裝在石英管內，大程度的減少由于加熱絲的揮發(fā)造成樣品表面附著物的污染；

※ 匹配磁鐵電源：雙性，穩(wěn)定度優(yōu)于50ppm/h，平滑過零無斷點；

※ 匹配電磁鐵：長時間運行穩(wěn)定度<±0.5Gs；

※ 冷卻方式：水冷。