PCL纳米纤维网格膜片300nm-昊然

静电纺丝技术是目前制备纳米纤维重要的基本方法。这一技术的核心是使带电荷的高分子溶液或熔体在静电场中流动并发生形变,然后经溶剂蒸发或熔体冷却而固化，于是得到纤维状物质，这一过程简称电纺。

PCL纳米纤维网格膜片300nm-昊然

PCL纳米纤维网格膜片300nm（厚度：1000um）（直径：3/8cm）（网格空隙：400um）

电纺方法中纳米纤维材料在收集器表面因重力和黏性的作用横截面将从圆形变为椭圆形.定义AFM的测量结果为垂直直径,SEM的测量结果为水平直径,研究了电压和浓度两个重要参数对电纺方法制备PCL纳米纤维平均直径的影响,并得到了质量分数为10%的PCL溶液制备的纳米纤维,并且其水平直径为垂直直径的1.5倍.

多孔薄膜PLGA纳米纤维200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL纳米纤维500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL纳米纤维200nm（厚度：100/200/500）um或1cm

开放式孔构薄膜PLA纳米纤维500nm（厚度：200/500）um或1cm

开放式孔构薄膜PLA纳米纤维200nm（厚度：200/500）um或1cm

PS纳米纤维网格滤片150nm（厚度：600um）（直径3/8cm）（网格空隙：200um）

PS纳米纤维网格滤片300nm（厚度：1000um）（直径3/8cm）（网格空隙：400um）

PS纳米纤维薄膜网格滤片150nm（厚度：1cm）（网格空隙：200um）

PS纳米纤维薄膜网格滤片300nm（厚度：1cm）（网格空隙：400um）

PS纳米纤维内嵌网格滤片150nm（厚度：600um）（孔数：6/12/24/48/96）（网格空隙：200um）

PLGA纳米纤维网格膜片150nm（厚度：600um）（直径：3/8cm）（网格空隙：200um）

PLGA纳米纤维网格膜片300nm（厚度：1000um）（直径：3/8cm）（网格空隙：400um）

PLGA纳米纤维内嵌网格膜片150nm（厚度：600um）（孔数：6/12/24/48/96）（网格空隙：200um）

PLA纳米纤维网格膜片150nm（厚度：600um）（直径：3/8cm）（网格空隙：200um）

PLA纳米纤维网格膜片300nm（厚度：1000um）（直径：3/8cm）（网格空隙：400um）

PLA纳米纤维薄膜网格膜片150nm（网格空隙：200um）

PCL纳米纤维网格膜片150nm（厚度：600um）（直径：3/8cm）（网格空隙：200um）

PCL纳米纤维薄膜网格膜片300nm（网格空隙：400um）

PCL纳米纤维内嵌网格膜片150nm（厚度：600um）（孔数：6/12/24/48/96）（网格空隙：200um）

温馨提示：以上产品仅用于科研，不用于人体（ZN2021.07）