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價(jià)格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池
組件類別	光學(xué)元件

Edmund 雙波段低 GDD 超快反射鏡

用于超快光束轉(zhuǎn)向的高反射率和低 GDD
離子束濺射鍍膜最大限度地減少散射和吸收損失
設(shè)計(jì)波長范圍內(nèi)的近零群延遲色散

Edmund 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。利用離子束濺射鍍膜技術(shù)，這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應(yīng)用，因?yàn)樗鼈儗⒈３殖堂}沖持續(xù)時間，而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時很難保持這種持續(xù)時間。

通用規(guī)格

入射角 (°):	45	鍍膜類型:	S1: Dielectric S2: Stress-compensating
波長范圍 (nm):	500 - 540, 1000 - 1070		S1: Dielectric S2: Stress-compensating
后表面:	Commercial Polish	鍍膜規(guī)格:	R_s>99.9% @500-540nm; R_p>99.8% @505-530nm; R_s>99.9% @1000-1070nm, R_p>99.8% @1000-1070nm
基底:	Fused Silica
平行度（弧分）:	<3
有效孔徑 (%):	>90
典型應(yīng)用:	Beam transport of 1st and 2nd harmonic of Yb:doped lasers		<35fs²@ 500 - 540nm (s-pol) <50fs²@ 505 - 530nm (p-pol) <20fs²@ 1000 - 1070nm (s-pol) <40fs²@ 1000 - 1070nm (p-pol)
鍍膜:	Ultrafast (500-540, 1000-1070nm)
表面質(zhì)量:	10-5	GDD Specification:
設(shè)計(jì)波長 DWL (nm):	515, 1030

產(chǎn)品型號

標(biāo)題	產(chǎn)品編碼
515, 1030nm, 12.7mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror	#17-286
515, 1030nm, 25.4mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror	#17-287
515, 1030nm, 50.8mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror	#17-288

雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。利用離子束濺射鍍膜技術(shù)，這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應(yīng)用，因?yàn)樗鼈儗⒈３殖堂}沖持續(xù)時間，而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時很難保持這種持續(xù)時間。