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GL4 R D研发型多功能纳米压印光刻设备是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的多功能研发型纳米压印光刻设备。通过简单的夹具更换，可以实现旋涂压印胶高精度纳米结构压印和点胶大矢高结构自动找平压印模式之间的快速切换。
GL4 R D研发型多功能纳米压印光刻设备是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的多功能研发型纳米压印光刻设备。通过简单的夹具更换，可以实现旋涂压印胶高精度纳米结构压印和点胶大矢高结构自动找平压印模式之间的快速切换?？墒迪种本?00mm以下基底面积上高精度（优于10nm * ）、高深宽比（优于10比1 * ）以及微透镜阵列等微纳结构压印，适合用作紫外纳米压印光刻工艺开发，器件原型快速验证，纳米压印材料测试等研发。它沿用天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，在GL4 R&D上开发的工艺可以无障碍转移到量产设备上进行生产。
GL4 R&D纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列、匀光片等应用领域的研发。
主要功能
| 兼容基底尺寸 | 直径≤100mm | ||
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 | ||
| 纳米压印技术 | 旋涂胶基底高精度压印&点胶自动找平压印 旋涂胶基底压印模式 点胶自动找平压印模式 | ||
| 压印精度 | 优于10纳米* | ||
| 结构深宽比 | 优于10比1* | ||
| 残余层控制 | 可小于10nm* 微米级TTV控制精度 | ||
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光强>300mW/cm2 | ||
| 自动压印 | 支持 支持 | ||
| 自动脱模 | 支持 支持 | ||
| 自动工作模具复制 | 支持 支持 | ||
| 主动找平压印 | - 支持 | ||
模自动点胶 | 支持 | 模具基底对位系统 | 手动对位（选配） |
| 上下片方式 | 手动上下片 |
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