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| 產地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產業(yè),石油 |
離子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應來拋光樣品的表面。樣品預處理系統(tǒng)可以用于電子和*材料等各個領域的研發(fā)和質量控制等。
產品簡介
詳細介紹
Hitachi日立高新離子研磨系統(tǒng)ArBlade5000能夠實現(xiàn)高產量，并制備廣域橫截面樣品。
離子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應來拋光樣品的表面。樣品預處理系統(tǒng)可以用于電子和*材料等各個領域的研發(fā)和質量控制等。
與機械拋光不同，離子研磨系統(tǒng)處理樣品而不會變形或施加機械應力。因此，用于預處理樣品的離子銑削系統(tǒng)的應用范圍不斷擴大，不僅包括掃描電子顯微鏡（SEM），還包括原子力顯微鏡（SPM / AFM）等。離子銑削系統(tǒng)應用范圍廣泛，日立高新收集了用戶在各種領域提供的關鍵性建議和改進，并將它們納入到新的設計平臺。
新推出的ArBlade 5000具有混合研磨功能，能夠進行橫截面研磨，是日立離子研磨系統(tǒng)的標志。此功能使樣品能夠根據所需的目的和應用進行預處理。
ArBlade 5000還具有PLUS II離子槍技術設計。這是一種新的氬離子槍，可以實現(xiàn)了1mm/hr以上的截面銑削速度（日立高新的IM4000Plus型號的兩倍）。新系統(tǒng)使用戶能夠在比以前更短的時間內準備橫截面，包括陶瓷和金屬等硬質材料，這往往需要較長的加工時間。
此外，日立高新開發(fā)了全新的寬區(qū)域橫截面研磨，以實現(xiàn)橫截面研磨， 大研磨寬度為8mm，從而可以制備比以往更大的截面樣品。通過與下一代氬離子槍的協(xié)同效應，新的ArBlade 5000可以與市場上可用的任何其他離子系統(tǒng)一起制備廣域橫截面樣品。
Hitachi日立高新離子研磨系統(tǒng)ArBlade5000主要特點
1.能夠進行橫截面和平面的混合研磨系統(tǒng)。
2.通過PLUS II離子槍技術設計高速氬離子槍實現(xiàn)1mm/hr或更高的橫截面研磨速度。
3.通過使用廣域橫截面研磨，實現(xiàn) 大寬度達8mm的廣域加工。
4.基于采用LCD觸摸面板的全新控制系統(tǒng)，增強了可操作性。