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| 測量范圍 | 0.6nm~10μm微米 | 產(chǎn)地類別 | 進口 |
|---|---|---|---|
| 分散方式 | 濕法分散 | 價格區(qū)間 | 20萬-30萬 |
| 儀器種類 | 動態(tài)光散射 | 應用領域 | 食品/農(nóng)產(chǎn)品,電子/電池,制藥/生物制藥 |
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
多檢體納米粒徑測量系統(tǒng) nanoSAQLA
多檢體納米粒徑測量系統(tǒng)nanoSAQLA利用動態(tài)光散射法(DLS法)的粒徑測量（粒徑0.6nm～10μm）儀器。
追求更高品質(zhì)管理的需求，搭載了各種功能。
可對應檢體范圍廣，低濃度～高濃度類，新光學系，輕便•小型，實驗室標配。實現(xiàn)標準1分鐘高速測量。
新產(chǎn)品，非浸泡型，不受夾雜物的影響，無自動取樣器，“5檢體連續(xù)測量”的標準設備。
特點
- 只需一臺，輕松實現(xiàn)5檢體連續(xù)測量
- 低濃度到高濃度都可對應
- 高速測量，標準時間1分鐘
- 搭載了簡單的測量功能 (1鍵測量)
- 內(nèi)置非浸泡型的cell block，無分注夾雜物
- 搭載溫度梯度功能
測量范圍（理論值）
- 粒徑 0.6nm～10μm
- 濃度范圍 0.00001～40％
- 溫度范圍 0～90℃*
式樣
| 型號 | 多檢體納米粒徑測量系統(tǒng) |
|---|---|
| 測量原理 | 動態(tài)光散射法 |
| 光源 | 高出力半導體激光*1 |
| 檢出器 | 高感光度APD |
| 連續(xù)測量 | 5檢體 |
| 測量范圍 | 0.6nm ～ 10μm |
| 對應濃度 | 0.00001 ～ 40% *2 |
| 溫度 | 0 ～ 90℃ （有溫度梯度功能） *3 |
| 規(guī)格 | 遵照 ISO 22412：2017 |
| 遵照JIS Z 8828：2013 | |
| 遵照JIS Z 8826：2005 | |
| 尺寸 | W240 X D480 X H375 mm |
| 重量 | 約18 kg |
| 軟件 | 平均粒徑解析 （累積法解析） |
| 粒度分布解析 | |
| （Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法） 粒度分布疊寫 逆相關函數(shù)?殘差plot 粒徑monitor 粒徑顯示范圍 （0.1 ～ 106 nm） 分子量計算功能 |
*1 根據(jù)激光安全基準 （JIS C6802）級別區(qū)分，本儀器的安全級別為1級。
*2 Latex120nm：0.00001 ～ 10％、牛黃膽酸：～40%
*3 標準glass cell的批量測量的情況。
一次性cell或連續(xù)測量時， 15 ～ 40℃ （不對應溫度梯度）
測量范例
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