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布魯克(北京)科技有限公...

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報(bào)名中 | 紅外光譜技術(shù)在硅材料質(zhì)控分析中的應(yīng)用(英文)

閱讀:426      發(fā)布時(shí)間:2021-6-17
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會(huì)議邀請(qǐng):

     在許多應(yīng)用領(lǐng)域,如可再生能源(光伏或氫氣技術(shù))、航空航天和電子領(lǐng)域,半導(dǎo)體(尤其是硅)是不可少的基礎(chǔ)材料。為了保證高效率和產(chǎn)品質(zhì)量,以雜質(zhì)的識(shí)別和定量、缺陷的檢測(cè)或光學(xué)器件的功能測(cè)試為形式的硅質(zhì)量控制成為半導(dǎo)體工業(yè)中一項(xiàng)關(guān)鍵而艱巨的任務(wù)。

     該系列網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)分為兩部分,在下周的第二場(chǎng)中,我們將向您介紹使用傅立葉變換紅外光譜進(jìn)行半導(dǎo)體質(zhì)量控制的高靈敏度解決方案,歡迎屆時(shí)參加。

主題:

High sensitivity Silicon QC using FT-IR Spectroscopy

語(yǔ)言:英文(English)

時(shí)間:

第二場(chǎng):6月21日(周一) 晚上10點(diǎn)-11點(diǎn)

第二場(chǎng)(重播): 6月22日(周二)下午3點(diǎn)-4點(diǎn)

(*以上為北京時(shí)間)

會(huì)議使用GOTOWEBINAR平臺(tái),由布魯克德國(guó)紅外應(yīng)用專家主講。


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