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雙光子無掩膜光刻的原理介紹
一、受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。從納米到介觀尺度原型制作：同類中先的3D打印系統(tǒng)?？纱蛴∪魏涡螤?，已被工業(yè)界認可的QuantumX平臺的二代加工系統(tǒng)。
二、原理作用過程：
(1)通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來大大提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置，實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。
(2)不僅是應用于生物醫(yī)學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。
三、特點與優(yōu)勢：
1.自動化自校準路徑保證的高精度激光能量控制及定位
2.可達6英寸基片和硅片的廣泛選擇
3.工業(yè)化批量生產(chǎn)：200個標準介觀尺度結(jié)構(gòu)通宵產(chǎn)量
4.保證實用性和體驗感的觸控屏和遠程控制功能
5.快速原型制作，高精度，高設計自由度，簡易明了的工作流程
6.工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn)