24位石墨消解儀多少錢(qián)？

應(yīng)用新型消解技術(shù)，具有升溫快速、程序控制、溫度均衡等優(yōu)點(diǎn)，適用于食品、藥品、質(zhì)檢、環(huán)保、疾控、化工、高校等行業(yè)樣品前處理，同時(shí)可用于微波消解的預(yù)處理和趕酸處理，是原子熒光、原子吸收、ICP-AES等分析儀器的理想配套產(chǎn)品。 

應(yīng)用范圍：Application range

廣泛應(yīng)用于食品、生物樣品、污水處理、土壤環(huán)保、農(nóng)產(chǎn)品、化妝品、衛(wèi)生、化工、生化等行業(yè)以及高等院校、科研部門(mén)對(duì)土壤、飼料、植株、種子、礦石、生物組織等樣品消解處理。

適用于以下方法：食品處理GB方法：GB/T 17138-1997、GB/T 5009.11-2003、GB/T 5009.17-1996等。

水處理EPA方法：200.2、200.7、200.8、200.9、245.1、365.1等；

土壤處理EPA方法：3010a、3020b、3050b、3060等；

土壤處理GB方法：GB/T22105.1-2008、GB/T22105.2-2008、GB/T 22105.3-2008等；

涂料處理GB方法：GB/T 22788-2008等；

電子產(chǎn)品處理方法：SJ/T 11365-2006等；

24位石墨消解儀主要特征：Principal character

1、節(jié)能高效：采用*的加熱保溫方式，可同時(shí)進(jìn)行多個(gè)樣品的處理，大大提高工作效率。

2、采用遠(yuǎn)紅外輻射石墨傳導(dǎo)的加熱方式，升溫速度快，孔間溫差小；

3、石墨表層經(jīng)過(guò)特氟龍?zhí)幚?，耐?qiáng)酸強(qiáng)堿，避免實(shí)驗(yàn)過(guò)程對(duì)機(jī)器表層的腐蝕；

4、采用具備自整定功能的智能調(diào)節(jié)，控溫且使用安全度高；

5、采用PID 控溫技術(shù)，升溫速度快，從室溫到400℃僅需25 分鐘；

6、產(chǎn)品采用等靜壓高純超細(xì)石墨加熱模塊加熱，控溫均勻性好，減小誤差；

7、整機(jī)具有過(guò)壓、過(guò)流、過(guò)熱等多重保護(hù)，及超溫報(bào)警功能；

8、采用雙層式內(nèi)膽懸空結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，的保證機(jī)器的散熱，避免長(zhǎng)時(shí)間使用導(dǎo)致機(jī)箱受熱；

9、可選配廢氣中和系統(tǒng)，通過(guò)冷凝、中和、干燥消除實(shí)驗(yàn)過(guò)程中產(chǎn)生的酸性氣體。

主要優(yōu)勢(shì)：Principal character

1、方法*，采用環(huán)繞式加熱，溫度均勻性好，熱效能高；

2、快速消解，樣品消解*；

3、加熱面積大，處理樣品多，消解效率高；

4、儀器采用PID數(shù)顯控溫，控溫，溶樣時(shí)間可自由設(shè)置；

5、*；

6、設(shè)計(jì)合理，美觀耐用，安全可靠；

7、耐酸堿，耐用高溫，防腐蝕；

8、操作安全，清潔方便。

被外界認(rèn)為“將*改變21世紀(jì)黑科技"。由于其眾多優(yōu)異的力學(xué)、光學(xué)、電學(xué)以及微觀量子性質(zhì)，在新能源、化工、航空航天、電子、醫(yī)療以及軍事裝備等多個(gè)領(lǐng)域具有非常廣泛的前景。近日，中科大傳來(lái)好消息，這種材料取得重大突破，有望大規(guī)模低成本量產(chǎn)，掀起新的產(chǎn)業(yè)革命浪潮。

近日，據(jù)科技日?qǐng)?bào)報(bào)道稱，從中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)得知，該校工程科學(xué)學(xué)院熱科學(xué)和能源工程系夏維東教授團(tuán)隊(duì)與合作者，提出“利用磁分散電弧產(chǎn)生大面積均勻熱等離子體合成石墨烯"這個(gè)新方法，突破了此前熱等離子體工藝高能耗、產(chǎn)品低均勻性以及生產(chǎn)不穩(wěn)定性等技術(shù)瓶頸，讓石墨烯有望能大規(guī)模連續(xù)生產(chǎn)。

之前一般采用射頻感應(yīng)加熱和微波加熱等離子的方法來(lái)制備石墨烯能耗高，而且合成石墨烯要求的反應(yīng)時(shí)間為毫米級(jí)，難以實(shí)現(xiàn)均勻加熱，導(dǎo)致產(chǎn)品的均勻性很差，難以工業(yè)化應(yīng)用。而夏維東教授團(tuán)隊(duì)采用的磁分散電弧產(chǎn)生的大面積均勻等離子體技術(shù)，很好地解決了上述技術(shù)的高能耗和加熱不均勻等問(wèn)題。