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产品简介
详细介绍
HMDS预处理系统的必要性：
HS40在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况
HMDS预处理洁净干燥箱（无尘烘箱）产品特点：
1、机外壳采用冷轧板烤漆处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。
2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。
3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。
4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC?？榭晒┯没Ц莶煌瞥烫跫谋涑绦?，温度，真空度及每一程序时间。
5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。
6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。
HMDS预处理洁净干燥箱（无尘烘箱）产品技术参数：
电源电压：AC220V±10%/50Hz±2%
输入功率：3000W
控温范围：室温+10℃-250℃
温度分辨率：0.1℃
温度波动度：±0.5℃
达到真空度：133Pa
容积：90L
工作室尺寸（mm）：450*450*450
外形尺寸（mm）：615*615*900
载物托架：2块
时间单位：分钟
通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS的工作温度、处理时间