电化学/电生理扫描探针显微镜SECM是一套多功能的SPM扫描探针显微镜系统，还可以集成SICM，SECCM等多功能。

    电化学/电生理扫描探针显微镜SECM具备扫描电化学显微镜及扫描离子电导显微镜成像（SECM/ SICM）与可定制?？榛墓庋晕⒕党上裢搅?/strong>的系统，此多功能的仪器系统全面覆盖细胞表面分析，细胞纳米形貌成像，细胞膜表面的离子通道的检测与成像, 细胞纳米力学领域的研究与创新，细胞活性和生理功能的原位电化学检测，以及神经传导物质的原位快速检测，并可升级后兼容荧光比值钙成像等诸多前沿应用。提供原位微观形貌与电催化活性同步扫描检测模式，例如：基础的等高模式和高级的等间距模式下的矩阵协议扫描和模板自定义扫描（3D微观打印或局部修饰等模式），提供给用户无限的实验组合和多种分析实验方法的高级拓展与联用。

系统组件与功能描述及核心参数：

1.1 机械扫描四轴纳米定位系统(?？?：

1. 1）* X/Y/Z 三轴扫描探针定位系统：闭环电路控制的直流伺服XYZ马达台叠加Z-轴压电驱动系统，XYZ马达台具备扫描分辨率≤10nm，马达扫描轴大动态扫描范围不小于X=100mm, Y=75mm, Z=50mm；Z-轴配备的纳米分辨率压电驱动系统具备步进分辨率≤1.5纳米。扫描系统具备探针与样品共扫描模式，Z-轴可快速完成长距离下的全自动探针逼近过程。
2. 2）系统具备X/Y/Z/F 四维亚微米便携式独立遥控杆，具有慢速和长距离/快速双模式。
3. 3） XY扫描轴可扩展移动定位范围，具备手动调节旋钮可额外扩展 X/Y定位范围至不少于±12.5 mm。

1.2 系统无缝集成的微观光学显微镜成像系统（模块）：

1. 1）* ?核心光学组件倒置集成于XY样品台的正下方，光学成像对焦由电动马达自动聚焦驱动器（分辨率≤5.5nm，对焦移动范围≥5厘米），光学对焦位置可进行数字式调节和记录。
2. 2）?* 光学成像光路具备模块化显微镜光路设计，核心组件具备临界照明的落射荧光光学元件，光导耦合器，及用户可自由调节的滤光片立方体和用于连接像机的C型接口适配器。
3. 3）?倒置显微镜须配备6孔位物镜盘，系统配置的物镜须具有长工作距离的荧光级物镜，放大倍数至少为4x, 20x和 40x.
4. 4）被观测样品的光学照片及视频可由系统相机进行实时采集，激发控制模式支持预设、内部同步、曝光激发、连续曝光模式。
5. 5）光学系统兼容升级接入无缝集成的LED荧光激发光源系统，荧光滤波片组及超高速荧光CCD相机。

?1.3. 多功能双通道电化学数据采集系统（?？椋?/span>：

1. 双恒电位仪工作站核心硬件参数：

• 槽压：± 12V；
• 电流可用量程：±5 pA 至 ±100mA
• 大电流: ±100 mA
• *电流分辨率: ≤0.15fA 在 5pA 量程 ；
• *电流噪音：RMS实测值≤ 3.5 fA （15Hz）; ≤ 31 fA（1kHz）; ≤ 120 fA（5kHz）， (测于5pA-10pA量程) ；
• 电位分辨率≤610 nV ；
• 内置数模转换器16-bit / 脉冲≤ 5 us (双通道)；
• 支持四电极连接模式，具有浮地接线模式。

   （2） 双恒电位仪工作站核心软件参数：

• 具备可用户自定义的数据采集/分析/作图功能, 兼容于各版本Windows (XP – Win10) 和MAC操作系统; 用户*升级 ；
• 全面支持传统电分析化学实验技术，例如：循环伏安法（支持FSCV），线性扫描伏安法，TAFEL图, 计时电流法，计时电量法，阶梯波伏安法，差分脉冲伏安法，常规脉冲伏安法，方波伏安法；交流伏安法，交流阻抗；计时电位法，电流扫描计时电位法，多电流跃阶法，电位溶出分析；时间电流曲线，差分脉冲安培法，三脉冲安培法，积分脉冲电流检测，多电位阶跃法，电位控制电解库仑法，开路电位-时间曲线，等等；
• 内置16-位超高速低噪音数模转换/数据采集器，具备多通道的模拟信号和数字信号的触发控制，支持在线控制联用多种科研分析仪器 (例如: RDE/RRDE, 温度控制器, 灌流控制器, 红外和拉曼光谱仪, 激光和LED光源, 荧光CCD相机等).

1.4. 扫描探针显微镜成像控制系统（?？椋?/span>

1. 控制系统支持扫描电化学显微镜（SECM）技术所有已知的扫描模式：
   • 自动/手动针尖逼近曲线
   • 2D/3D等高扫描 (自动斜率矫正；用户可自定义XYZ扫描轴方向与顺序)
   • 2D/3D跳跃式矩阵协议扫描（每一矩阵点可使用任何自定义波形和实验序列）
   • *2D/3D等间距扫描（具备剪切力调制模式/电流调制模式/交流阻抗调制模式）
   • 2D/3D自定义模版矩阵扫描（具备3D微观打印/电沉积/电修饰模式）
   • 循环同向扫描或循环逆向扫描 （可自定义任何扫描动作组合和循环）
2. 控制系统支持扫描电化学显微镜（SECM）技术所有已知的高级成像操作模式：
   • 正/负反馈模式
   • 产生/收集模式
   • 氧还竞争模式
   • 表面问询滴定模式
   • AC-SECM模式
   • 无氧还媒介物下的直接模式
   • 剪切力感应下的表面形貌追踪模式
   • *深度分布(X/Z Depth Scan)模式
   • *SICM纳米形貌成像模式
   • *SECCM同步原位形貌与电催化活性成像模式
3. *控制系统支持SECM高级等间距模式（进行*的非接触式扫描）：
   • 具备剪切力感应模块和内置交流频率锁相放大器，通过剪切力感应过程中的交流电振幅衰减和相变，进行距离与交流信号校准曲线，从而控制扫描探针与被测样品的等间距扫描. 工作频率范围50 KHz 至1 MHz，可控等间距范围10纳米至5微米，激发信号振幅0 V 至2 V (交流正玄波) ；
   • 剪切力感应下的形貌测量参数分辨率为1.5纳米(系统在线同时储存样品的电化学活性电流和高度形貌信息的数据). 剪切力感应?？榈牡髦菩藕旁醇瓤梢允翘秸氲缌?也可以是微观流体介质内的剪切力的振动变化感应，由此完美兼容多种高级的电化学扫描探针显微镜技术（如SECM / SICM / SECCM等）.
   • 等间距扫描模式支持跳跃式扫描（针对形貌粗糙具有斜率的样品表面）和非跳跃式扫描功能（针对形貌平滑的样品表面）。
4. 控制系统支持扫描离子电导显微（SICM）技术：
   • 支持Hopping DC-SICM (跳跃式直流调校) 以及新的BM-SICM（偏压调校）高级工作模式。
   • SICM扫描技术达到至少1.5纳米精度的Z轴形貌分辨率，纳米探针的逼近曲线实验慢速度可达到10 nm/s以下。
5. *控制系统支持扫描微电化学池显微（SECCM）技术：

• 支持利用单孔或双孔微滴管SECCM探针在气相中通过悬浮的微纳电解液液滴探测固态样品表面的局部物理与化学特性；可通过探针的单次三维扫描，同步原位的获取微观物理形貌及纳米表面电化学活性的三维分布图；
• 用户可自定义矩阵跳跃扫描模式下的原位实验序列，可实现多种微观电化学分析技术的自动序列成像与作图分析；系统具备针对特殊应用的软件成像优化, 对锂电或超级电容材料具备原位的纳米形貌成像和微观充放电活性的同步成像模式，对催化活性材料和腐蚀材料具备原位的纳米形貌成像和微观极化曲线/塔菲尔曲线，微观局部阻抗，微观腐蚀电位，微观腐蚀电流等检测技术的同步原位成像模式;
• 系统兼容于集成放置在惰性气体手套箱中，支持水相电解液和有机电解液的SECCM扫描;
• 系统兼容可用用户自由拉制的各种微/纳尺寸的单孔或双孔SECCM玻璃探针，软件具备在线针对纳米玻璃探针的pF级电容实时自动探测，补偿与扣除的功能。