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　　在化工、電子、電力、金屬等行業(yè)中，為了實(shí)現(xiàn)對(duì)各類材料的保護(hù)或裝飾作用，通常要采用噴涂、有色金屬覆蓋以及磷化、陽(yáng)極氧化處理等方法，這樣，便出現(xiàn)了涂層、鍍層、敷層、貼層或化學(xué)生成膜等概念，我們稱之為“覆層”。覆層的厚度測(cè)量已成為金屬加工工業(yè)已用戶進(jìn)行成品質(zhì)量檢測(cè)*的z重要的工序。

　　X射線膜厚測(cè)試儀對(duì)材料表面保護(hù)、裝飾形成的覆蓋層進(jìn)行厚度測(cè)量的儀器，測(cè)量的對(duì)象包括涂層、鍍層、敷層、貼層、化學(xué)生成膜等。主要分為磁性鍍層測(cè)厚儀、電渦流鍍層測(cè)厚儀，X射線鍍層測(cè)厚儀三類測(cè)量方法。

　　X射線膜厚測(cè)試儀采用磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度。覆層越厚，則磁阻越大，磁通越小。利用磁感應(yīng)原理的測(cè)厚儀，原則上可以有導(dǎo)磁基體上的非導(dǎo)磁覆層厚度。一般要求基材導(dǎo)磁率在500以上。

　　X射線膜厚測(cè)試儀的產(chǎn)品特點(diǎn)：

　　1、良好的射線屏蔽作用。

　　2、測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)。

　　3、高分辨率探頭使分析結(jié)果更加。

　　4、滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求。

　　5、φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求。

　　6、高精度移動(dòng)平臺(tái)可精que定位測(cè)試點(diǎn)，重復(fù)定位精度小于0.005mm。

　　7、采用高度定位激光，可自動(dòng)定位測(cè)試高度。

　　8、定位激光確定定位光斑，確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊。

　　9、鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái)，鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)。