11月30日-12月1日，第 23 屆全國分子光譜學(xué)學(xué)術(shù)會議和第五屆光譜年會暨黃本立院士百歲華誕學(xué)術(shù)研討會在福建省廈門市召開。此次盛會由中國光學(xué)學(xué)會、中國化學(xué)會，以及中國光學(xué)學(xué)會光譜專業(yè)委員主辦，由廈門大學(xué)承辦。本次大會匯聚了國內(nèi)外光譜相關(guān)領(lǐng)域的院士、專家學(xué)者和企業(yè)代表，通過這一平臺，與會者不僅分享了各自研究領(lǐng)域的最新成果，并就未來所面臨的科技挑戰(zhàn)展開了深入探討。

譜育科技攜SUPEC 7000 ICP-MS，EXPEC 6500 ICP-OES，EXPEC 3750 GC-MS、SUPEC 5000 COD等高端分析儀器參與本次會議，為促進實驗室分析研究和應(yīng)用技術(shù)發(fā)展貢獻力量。

譜育科技擁有豐富的技術(shù)平臺和產(chǎn)品體系，掌握了質(zhì)譜、色譜、光譜、理化等分析檢測技術(shù)及氣體、液體、固體等進樣前處理技術(shù)。在光譜技術(shù)領(lǐng)域，公司積累了近20年的研發(fā)沉淀，構(gòu)建了包括分子光譜、原子光譜和熒光光譜在內(nèi)的多個技術(shù)平臺，展現(xiàn)出強勁的創(chuàng)新動力。

精彩報告一覽

會議上，譜育科技質(zhì)譜分析研究部副經(jīng)理 吳智威博士發(fā)表了題為《ICP質(zhì)譜技術(shù)在超痕量分析與瞬態(tài)信號分析領(lǐng)域中的應(yīng)用進展》的報告。

吳博向與會專家詳細介紹了譜育科技ICP-MS/MS與ICP-Q-TOF在超痕量分析領(lǐng)域及瞬態(tài)信號分析領(lǐng)域的最新進展。其中，EXPEC 7350S型 ICP-MS/MS基于其優(yōu)異的檢出性能，目前已具備全面覆蓋晶圓表面雜質(zhì)、濕化學(xué)品、電子特氣、硅烷等典型樣品的超痕量分析需求的技術(shù)能力，并且可為我國半導(dǎo)體檢測設(shè)備與技術(shù)的國產(chǎn)替代提供強有力的技術(shù)支撐。而在瞬態(tài)信號分析方面，吳博基于ICP-Q-TOF技術(shù)對金屬標簽摻雜納米/微米塑料的表征研究為例，介紹了譜育科技在瞬態(tài)信號分析領(lǐng)域中的最新進展，并對ICP質(zhì)譜技術(shù)在單顆粒、單細胞的進一步前沿應(yīng)用進行了展望。

會議期間舉行了“黃本立院士獎學(xué)金”捐贈證書頒發(fā)儀式，該學(xué)獎金為支持廈門大學(xué)化工學(xué)院的建設(shè)，激勵在校學(xué)子勇攀科學(xué)高峰。譜育科技捐獻了10萬元助資學(xué)院的黃本立獎金，吳智威博士代表譜育科技領(lǐng)取黃本立獎學(xué)金捐贈證書。

展望未來，譜育科技將不斷秉承黃本立院士永攀高峰、敢為人先的創(chuàng)新精神，以及專心努力潛心研究的奉獻精神，堅定不移地推進高端科學(xué)儀器國產(chǎn)化的發(fā)展道路。我們致力于通過不懈努力，支持國家在科技領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)更高水平的自主可控，不斷向著更加宏偉的目標前進，為我國科技進步貢獻力量。