一·真空 晶体生长 烧结炉 源头直供设备用途

　　主要用于LED行业的宝石类晶体制备，氟化物类晶体生长，烧结，退火等处理

二·真空 晶体生长 烧结炉 源头直供产品特点

1·?？榛杓?，结构紧凑，外形美观，

2·采用底部电动升降和钟罩式炉体升降，结构精巧，方便，移动平稳装卸料方便

3· 采用触摸屏+plc控制方式，自动化程度高，操作直观，功能强大。

4· 在触摸屏内可预存几十种烧结工艺，一次编辑，以后直接调用使用，省去多次编辑工艺的麻烦，避免输入错误，烧坏产品。

5· 烧结的温度，真空度，等数据可实时记录，也可随时启动停止记录，减少无用数据，数据可查询，可导出下载。

6· 烧结温度高，用石墨发热体，发热均匀。

三·设备参数

1· 设备总功率：≤110Kw；电源电压：3相380V,50Hz

2·加热功率：80kw 三相380V(暂定）

2·温度：1500℃

3·额定温度：0~1400℃

1. 4. 工作区尺寸：Ф500×300mm（直径×高，）

5·炉体内径Ф1000*1200mm（暂定）

6.测温系统：                   钨莱热电偶

7.控温精度：                   ±1℃

8.加热区：                    Ф540×600mm

9.下降速度：                  慢速升降0.1-10mm/h（伺服控制）

快速升降50-200mm/min（带手动升降）

10.中心轴有效行程/载重：      ≤450mm/200kg

11.炉内充气压力：             ≤0.03MPa