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實驗真空電弧爐MTDH-1000

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更新時間:2021-06-07 11:43:03瀏覽次數(shù):241

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產(chǎn)品簡介

應用領域 環(huán)保,地礦,能源,電子/電池,鋼鐵/金屬
實驗真空電弧爐MTDH-1000主要供大專院校或科研機構在真空或保護氣氛下對少量(數(shù)十克至上百克)貴金屬或合金材料高熔點材料·難熔金屬等進行熔化處理。通過電弧放電的方式加熱并融化金屬原料,使之成為合金。

詳細介紹

一·實驗真空電弧爐MTDH-1000具體參數(shù)

型號

MTDH-900

電弧熔煉室

立式圓筒型真空室,尺寸φ400X400mm

真空系統(tǒng)配置

機械泵、擴散泵(分子泵)、擋板閥

極限壓力

≤6.67x10E-3Pa  ≤6.67x10E-4Pa  (分子泵)

熔煉電流

長期工作電流700-1200A

熔煉坩堝

有五個工位 (半球窩SR25)
三個熔煉合金工位 (帶磁攪拌)
一個吸鑄工位
一個熔煉除氣工位
熔煉樣品重量 (以鐵標定) 50~80克

真空吸鑄裝置

提供標準噴鑄模具1套

電弧熔煉陰極裝置

引弧方式為高頻引弧

設備占地面積

1200*800*1600

二·實驗真空電弧爐MTDH-1000用途

   非自耗真空電弧爐主要供大專院?;蚩蒲袡C構在真空或保護氣氛下對少量(數(shù)十克至上百克)貴金屬或合金材料高熔點材料·難熔金屬等進行熔化處理。通過電弧放電的方式加熱并融化金屬原料,使之成為合金。
三·真空電弧爐結構說明
  本產(chǎn)品由爐體、上電極、下電極及爐蓋升降機構、上電極旋轉升降機構,吸鑄模具升降機構,真空系統(tǒng)及電源系統(tǒng)等組成。爐體采用雙層水冷結構,內(nèi)外層為不銹鋼組焊接而成,并做表面啞光處理。結構新穎外形美觀大方。控制系統(tǒng)與爐體采用一體化設計,并安裝有金屬模擬屏,操作按鈕按照功能用途集中模塊化布局,并配有模擬圖形,識別度高,方便操作!下電極可裝有五個坩堝工位,一個吸鑄工位 移動上電極可選擇一個進行熔化。上電極可上下移動,方便熔化操作。爐側有一至二個觀察窗用來操作引弧,觀察窗上裝有墨色玻璃保護操作者眼睛。
  真空系統(tǒng)采用二級泵,即K-200油擴散泵(或者分子泵)和TRP-24直聯(lián)泵,操作無聲,無雜音。真空機組上設有水冷擋板、放氣閥及充氣閥。
  電源控制采用電弧熔煉電源,安全系數(shù)高,穩(wěn)定性強。電路設有斷水報警及保護功能。

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