CVD石墨烯制备使用的时候需要注意哪些事情
本产品不仅可应用于氧化石墨在快速高温下裂解制备石墨烯的工艺工程，还可应用于改性石墨热处理制备膨胀石墨等专业领域
此仪器为用户提供快速高温、真空、可控气氛的实验环境，产品加热元件采用红外灯管，升温速度快，节省时间。滑动法兰和石英支架结构，方便式样的装载和卸载。循环水冷法兰密封，可在热处理工程中保证真空条件和气氛保护，防止氧化发生。
CVD石墨烯制备双温区滑轨式CVD系统炉管内气压不可高于0.02MPa
当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态进入炉管的气体流量需小于200SCCM，以避免冷的大气流对加热石英管的冲击
石英管的长时间使用温度＜1100℃
对于样品加热的实验，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，若气压表示数大于0.02MPa，必须立刻打开泄气阀，以防意外发生（如炉管破裂，法兰飞出等）。
产品特点：
1控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单。
2气路快速连接法兰结构采用本公司*的知识产权设计,提高操作便捷性。
3中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵
防止意外漏气造成分子泵损坏，延长系统使用寿命。
