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暗場照明用于晶片檢查
在工業(yè)圖像處理中，暗場照明在高反射表面的研究尤為重要。該光束以低角度入射角被引導到物體的表面上，對于一個*無瑕的表面反射，不會撞擊在相機上而掃描出現(xiàn)*黑暗。
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
在工業(yè)圖像處理中，暗場照明在高反射表面的研究尤為重要。該光束以低角度入射角被引導到物體的表面上，對于一個*無瑕的表面反射，不會撞擊在相機上而掃描出現(xiàn)*黑暗。
然而，如果表面凹凸存在任何損傷如劃痕、裂縫，雜質(zhì)如灰塵、絨毛和脂肪，然后入射光的一小部分被漫散射，由照相機鏡頭所拍到達傳感器，呈亮色。因而細小凹凸不平因此可以檢測到，使透鏡的分辨率擴大到極限。
應用領域
高反射性材料的表面檢查，諸如芯片，晶片或鏡像表面，突出輪廓，劃痕，骨折，灰塵顆粒和污物。