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深圳市秋山贸易有限公司
主营产品： 抹茶生产线,粉碎研磨珠,口红硬度计 |
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日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器
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型号
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品牌
其他品牌
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厂商性质
代理商
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所在地
深圳市
更新时间：2024-09-19 15:14:19浏览次数：1249
联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息，谢谢!
【简单介绍】
| 产地类别 |
进口 |
应用领域 |
化工,能源,电子/电池,制药/生物制药,电气 |
日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器
?型号NanoCVD-8G（用于石墨烯合成）
?型号NanoCVD-8N（用于碳纳米管）
无需使用大型制造设备，每批只需30分钟即可轻松实现石墨烯/ CNT合成。
CVD方法（化学气相沉积）
CVD法是已经为多种目的而建立的稳定技术，并且当考虑将来石墨烯和CNT的大规模合成时是现实的方法。
日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器
特性- 无需使用大型制造设备即可轻松进行石墨烯/ CNT（SWNT）成膜实验。
- 每批仅30分钟！
- 冷壁型高效，高精度的过程控制
- 快速升温：RT→1100℃/约3分钟
- 具有高精度温度流量控制和出色重现性的高性能机器
- 操作简便！5英寸触摸屏可进行操作和配方管理
- 多可以创建和保存30个配方，30个合成程序步骤
- 软件为标准设备，输出为CSV文件在PC上记录数据
- USB电缆连接，在PC端创建配方→可以上传到设备
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| | 外型尺寸
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| | 主要规格| A.主要规格 | | | 1.反应室 | 不锈钢SUS304泄漏检查 | | 2.加热阶段 | 陶瓷制成 | | 3.相应的样本量 | 20 x 40毫米 | | 4.加热加热器 | 高纯石墨加热器Max1050℃ | | 5.温度控制 | K型热电偶标准附件（安装在加热台下） | | | | | B.过程控制设备规格 | | | 1.气体控制 | 质量流量控制器x 3（Ar，H2，CH4） | | 2.压力控制 | 20托FS | | 3.真空排气 | 包括爱德华兹旋转泵RV3（3立方米/小时） | | 4.操作面板 | 正面安装5英寸触摸屏（欧姆龙制造） | | 5.风冷 | 用冷却风扇冷却外壳内部 | | 6.控制系统 | PLC自动过程控制 | | | | | C.软件（标准附件） | | | 1. nanoCVD软件 | 标配（已安装石墨烯的标准程序） | | 2.界面 | USB 2.0连接 | | 3.设置数 | 多30个配方，30个程序创建和保存步骤 | | | | | D.气体导入连接规格 | | | 1.工艺气体 | 1/4英寸世伟洛克卡套管接口，用于Ar，H2，CH4 x 3 | | 2.载气 | Φ6mm推锁式管接头，用于N2或Ar x 1 | | | | | E.安全装置 | | | 1.过热 | 由加热台安装热电偶控制 | | 2.机壳内部过热 | 从内部温度开关 | | 3.气压异常 | 来自质量流量控制器 | | 4.真空度降低 | 来自真空传感器 | | | | | F.实用程序 | | | 电源 | AC200V单相50 / 60Hz 13A | | 1.工艺气压 | 30psi 200sccm以下 | | 2.载气压力 | 60-80磅/平方英寸 | | | | | G.尺寸/重量 | | | 1.尺寸 | 405mm（宽）x 415mm（深）x 280mm（高） | | 2.重量 | 约27公斤 |
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nanoCVD-8G（石墨烯）
纳米CVD-8N（CNT）
带旋转泵的nanoCVD-8G
通过CVD化学气相沉积法在短时间内在金属基底催化剂（Cu，Ni箔等）上合成单层石墨烯膜。nanoCVD-8G的基本操作方案是在石墨平台上以醉高1100°C的高温烘烤，并在减压下供应原料气体（甲烷），氮气和氢气。
◇◆标准设备配置◆◇
- ●用于石墨烯生成，真空过程控制
- ●标配旋转泵（选件：TMP，扩散泵或干泵）
- ● 3个供气系统（标准）
- ●样品台大1100℃
- ● K型热电偶
*以下选项也可满足其他要求的实验目的（单独讨论）。
- ●增加气体导入口（改变和增加气体种类）
- ●增加干泵系统
- ●增加额外的腔室/加热台并改变台结构
使用nanoCVD-8G样品加热台] [nanoCVD-8G后面板]生产的石墨烯的拉曼光谱
日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器
