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深圳市秋山贸易有限公司

主营产品: 抹茶生产线,粉碎研磨珠,口红硬度计

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日本thermocera高温阶段“基板加热”1800℃
日本thermocera高温阶段“基板加热”1800℃
参考价 10000
订货量 1000
具体成交价以合同协议为准
  • 型号
  • 品牌 其他品牌
  • 厂商性质 代理商
  • 所在地 深圳市

更新时间:2024-09-19 15:14:15浏览次数:1546

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【简单介绍】
类型 其他 应用领域 化工,文体,能源,电子/电池,钢铁/金属
日本thermocera高温阶段“基板加热"1800℃
加热,板上/下板,板旋转,RF / DC板偏置
可以根据设备配置自由定制,Depo-Up和Down,定制板支架,板旋转/上/下/上/下,倾斜加热和反向溅射等各种功能都包含在该单元中。
各种加热丝:NiCr,石墨,CCC,Inconel,钨,钼,SiC / PBN / PG涂层,卤素灯和其他10种类型

日本thermocera高温阶段“基板加热”1800℃

 

加热,板上/下板,板旋转,RF / DC板偏置

可以根据设备配置自由定制,Depo-Up和Down,定制板支架,板旋转/上/下/上/下,倾斜加热和反向溅射等各种功能都包含在该单元中。
各种加热丝:NiCr,石墨,CCC,Inconel,钨,钼,SiC / PBN / PG涂层,卤素灯和其他10种类型

总览

基板加热阶段需要加热阶段,例如垂直提升机构(基板支架和加热头中的一个或两个),基板旋转,RF / DC基板偏压(反向飞溅RF / DC清洁)和加热部分倾斜。它是具有多种功能的“多合一”组件。我们可以满足对半导体制造设备和各种真空设备(气相沉积设备,溅射,CVD设备)的所有要求。

 
   
       
 

 

基板加热加热器,晶片加热,加热台,晶片退火2寸热舞台_800C

 

   

 

基板加热加热器,晶片加热,加热台,晶片退火晶圆托盘_提起

 

 
       
   
 

应用/用例

?半导体制造,薄膜的实验设备,RF / DC反溅射,PECVD,RIE等
?用热台(800℃说明书→修饰以醉高1600℃)更换现有设备的加热机构
?新工艺评价机器,样机,等

 
   
 

加热部位规格

?NiCr加热器
?Inconel加热器
?钨加热器
?钼加热器
?卤素灯加热器
?石墨加热器
?C / C复合加热器
?各种涂层加热器(PG,PBN,SiC涂层,玻璃碳)

*工作温度和数据均为“陶瓷顶”?请参阅“加热器”。

 
   
   
 

各部分名称


热舞台结构

 日本thermocera高温阶段“基板加热”1800℃



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