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擴(kuò)散爐是研制生產(chǎn)晶體管、可控硅和集成電路等半導(dǎo)體器件的工藝設(shè)備之一，主要用于擴(kuò)散和氧化等工序。
擴(kuò)散爐主要由控制部分、凈化部分、電阻加熱爐部門、氣路部分組成。控制部分主要控制進(jìn)出舟，電阻加熱爐主要是控制擴(kuò)散爐的溫度部分，氣路主要控制擴(kuò)散源的流量及尾氣的排放量。
擴(kuò)散爐的工藝控制軟件的使用為：按下“上電”按鈕，啟動(dòng)計(jì)算機(jī)，雙擊“擴(kuò)散監(jiān)控系統(tǒng)”圖標(biāo)后啟動(dòng)工藝控制軟件。輸入用戶名、密碼，即可登錄。
擴(kuò)散爐的溫度設(shè)置主要由界面上有三個(gè)模擬溫度控制器圖形，分別對(duì)應(yīng)擴(kuò)散爐的三段溫度控制器。
擴(kuò)散爐是一種能自動(dòng)控制溫度的電阻爐。由溫度控制器、可控硅裝置和爐體構(gòu)成。爐體由保溫材料、加熱絲和爐管組成。溫度控制器可控制裝置對(duì)爐溫進(jìn)行自動(dòng)控制，使?fàn)t膛溫度保持穩(wěn)定、均勻，以滿足工藝要求。