GalvanoTest2000膜厚儀EPK上海專業(yè)代理

概述：

德國EPK(Elektrophysik)公司庫侖鍍層測(cè)厚儀GalvanoTest 2000，應(yīng)用庫侖電量分析原理。其過程類似于電鍍，但電化學(xué)反應(yīng)的方向相反，是電解除鍍?？梢杂糜跍y(cè)量幾乎所有基體上的電鍍層厚度?；w包括鋼鐵、有色金屬以及絕緣材料。例如鐵上鑷、鐵上鋅、銅上銀、環(huán)氧樹脂上的銅等。
測(cè)量時(shí)只需去除幾乎看不到的一小塊面積的鍍層金屬，而基體不受影響。庫侖法確保測(cè)量結(jié)果準(zhǔn)確、可靠，儀器使用簡便。測(cè)量操作由儀器的指令自主完成，操作者不需要專業(yè)知識(shí)

GALVANOTEST 2000電解膜厚儀特點(diǎn)是：
•可測(cè)實(shí)際應(yīng)用的所有鍍層
•利用庫侖電量分析原理，測(cè)量鍍層、多層鍍層
•符合標(biāo)準(zhǔn)：DIN EN ISO 2177

電解測(cè)厚法：此方法有別于以上三種，不屬于無損檢測(cè)，需要破壞涂鍍層，一般精度也不高。測(cè)量起來比較其他幾種麻煩。

GalvanoTest2000膜厚儀EPK上海專業(yè)代理

典型應(yīng)用：

破壞性測(cè)量：
電鍍涂層如金屬或非金屬基材上的鉻，鎳，鎘，銅，黃銅，銀，金，錫，鋅

儀器特征：

8脫鍍速度為0.3至40μm/ min

測(cè)量表面介于0.25和8mm²之間
測(cè)量范圍在50nm和75μm/ 0.002-3密耳之間
用于測(cè)量電線的電解質(zhì)燒杯（附件）
可變關(guān)閉速度，用于測(cè)量合金區(qū)域
用于小型部件和電線測(cè)量的各種特殊附件

數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

可存儲(chǔ)不同金屬測(cè)量參數(shù)的數(shù)目

可存儲(chǔ)2000個(gè)讀數(shù)和統(tǒng)計(jì)值 

儀器斷電后可保持所有校準(zhǔn)值、讀數(shù)、統(tǒng)計(jì)值。