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多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)nanoSAQLA
  • 多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)nanoSAQLA

貨物所在地:上海上海市

更新時間:2025-02-10 21:00:21

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多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)nanoSAQLA利用動態(tài)光散射法(DLS法)的粒徑測量(粒徑0.6nm~10μm)儀器。 可對應檢體范圍廣,低濃度~高濃度類,新光學系,輕便小型,實驗室標配。實現(xiàn)標準1分鐘高速測量。

多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)nanoSAQLA利用動態(tài)光散射法(DLS法)的粒徑測量(粒徑0.6nm~10μm)儀器。

可對應檢體范圍廣,低濃度~高濃度類,新光學系,輕便小型,實驗室標配。實現(xiàn)標準1分鐘高速測量。

多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)nanoSAQLA(圖1)

特點

1、只需一臺,輕松實現(xiàn)5檢體連續(xù)測量

2、低濃度到高濃度都可對應

3、高速測量,標準時間1分鐘

4、搭載了簡單的測量功能 (1鍵測量)

5、多檢體納米粒徑量測系統(tǒng)nanoSAQLA內(nèi)置非浸泡型的cell block,無分注夾雜物

6、搭載溫度梯度功能

測量范圍

1、粒徑 0.6nm~10μm

2、濃度范圍 0.00001~40%

3、溫度范圍 0~90℃*

產(chǎn)品規(guī)格

型號

多檢體NANO粒徑測量系統(tǒng)

測量原理

動態(tài)光散射法

光源

高出力半導體激光*1

檢出器

高感光度APD

連續(xù)測量

5檢體

測量范圍

0.6nm ~ 10μm

對應濃度

0.00001 ~ 40% *2

溫度

0 ~ 90℃ (有溫度梯度功能) *3

規(guī)格

遵照 ISO 22412:2017

遵照JIS Z 8828:2013

遵照JIS Z 8826:2005

尺寸

W240 X D480 X H375 mm

重量

約18 kg

軟件

平均粒徑解析 (累積法解析)

粒度分布解析

(Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法)
粒度分布疊寫
逆相關(guān)函數(shù)?殘差plot
粒徑monitor
粒徑顯示范圍 (0.1 ~ 106 nm)
分子量計算功能

1、根據(jù)激光安全基準 (JIS C6802)級別區(qū)分,本儀器的安全級別為1級。
2、Latex120nm:0.00001 ~ 10%、牛黃膽酸:~40%。
3、標準glass cell的批量測量的情況。



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