AT200M 经济型原子层沉积设备

• 占地面积?。▇ 15 英寸 3 或 38.1 厘米 3：宽：14 英寸（35.5 厘米）x 深：15 英寸（38.1 厘米）x 高：14.5 英寸（36.5 厘米））

• 适合手套箱

• 可容纳来自 2“ x 2" x 3“ 或四个 2" 圆形/方形晶圆的样品（可定制卡盘/8 x 2“ 盒）

• 一种前驱体和一种反反应物（也提供我们的 4 端口选项：3 个前驱体和 1 个反反应物或 2 个前驱体和 2 个反反应物）

• 新 – AT 200M Plus，配备 13.56MHz、80W 空心阴极等离子体源（1 个标准 MFC 和最多 2 个可用）。

• 带有金属密封线的半导体级组件

• 通风前体外壳

• 高温兼容、快速脉冲的 ALD 阀，带有用于集成惰性气体吹扫的超快速 MFC

• 前体（最高 180°C），歧管，腔室加热以确保无冷凝。

• 强大的 PLC 驱动用户界面（可通过 Windows 进行远程以太网控制）

• 不锈钢腔体可加热至 300°C（可选卡盘可达 450 °C 或更高）

特征

• 
  

• 占地面积?。▇ 15 in3 或 38.1 cm3），可轻松安装在手套箱中或 SEM/TEM 蒸发器旁边。

• 一个前体和一个反反应物（可扩展到 4 个）

• 可容纳来自 2“ x 2" x 3“ 或四个 2" 圆形/方形晶圆的样品（可定制卡盘/8 x 2“ 盒）

• 通风前体外壳

• 高温兼容、快速脉冲的 ALD 阀，带有用于集成惰性气体吹扫的超快速 MFC – 标准配置

• 金属密封线

• 前体（最高 180°C），歧管，腔室加热以确保无冷凝。

• 不锈钢腔室可加热至 300°C（可选择 450 °C 或更高）

• 带集成 PLC 控制器的 5 英寸显示器（无需 PC）

规格

• 室温从室温到 300°C ± 1 °C

• 前驱体温度从室温到 180°C ± 2°C（带加热夹套）

• 市场上占地面积最?。?.6 平方英尺），台式安装，洁净室兼容（与我们大型系统的所有安全联锁装置），也适合手套箱。

• 系统维护简单，公用事业和前体使用量低。

• 腔室容积小

• 非?？斓难纺芰?。

• 完整的硬件和软件联锁，即使在多用户环境中也能安全运行

选项

• · 无需集成手套箱 [适合手套箱（或连接到手套箱的侧面）

• · 定制卡盘/压板（方形、圆形、双基板、篮子、小件、较厚的基板、8 个晶圆盒）。

• · 新 – AT 200M Plus，配备 13.56MHz、80W 空心阴极等离子体源（1 个标准 MFC 和最多 2 个可用）。

• · 新产品：温度补偿 QCM

• · 新：450 °C（或更高）卡盘

• · ATOzone – 臭氧发生器（某些薄膜需要：Pt、Ir、SiO₂、MoO₂、60°C 以下的高质量 Al₂O₃、高质量 HfO₂）

• · 可选 – 臭氧安全监测器，可实时检测环境臭氧气体

• · 4 端口选项（例如：2 个加热前驱体、1 个未加热前驱体、1 个反反应物）

• · 新 – 6 端口选项（例如：2 个加热前驱体、2 个未加热前驱体、2 个 MFC 控制的反反应物）

• · 新 – MLD 选项

• · 粉末涂料滚筒

• 外部控制 – PC/软件链接（允许远程编程和运行）

• 包括可通风前体柜

安装

有关详细说明，请参阅我们的说明：“AT200M 安装和启动 "

• · N₂ 吹扫气体应为 >99.9995%，带截止阀（调节至 10 – 30 psi，金属密封），

• · 通过 1/4 英寸金属密封管将氮气 （UHP） 吹扫气体连接到背面的 1/4 英寸压缩接头上

• · 通过 1/4“ 聚乙烯管或金属线将 90-110 psi CDA（清洁干燥空气）连接到另一个 1/4" 压缩接头

• · 使用适当的 1 英寸真空（金属 （SS））软管 （KF25）、O 形圈和夹子连接泵

• · 真空泵的另一侧（排气侧）（* 全氟真空油，如 Fomblin，必需）应进入标准实验室排气或顶部，抽> 5cfm（1 英寸管道）。

• · 大于 1 米需要使用 1.5 英寸 （NW40）。

• · 前体通过内螺纹 VCR 弯头连接（始终使用新垫圈）。

• · 先是 1/4 英寸垫圈（戴手套）

· 有关前驱体的连接，请参阅 “AT200M 安装和启动 "

软件

有关详细说明，请参阅我们的演示和视频说明：“AT200M 安装和启动 "

• 带 5 英寸触摸屏的人机界面 （HMI） PLC 系统

• 
  面板

• · 适用于标准 ALD 循环沉积的先进控制

• · 用于高质量、经过测试的工艺的配方数据库

• · 自定义配方输入屏幕

• · 实时显示工艺状态

• · 可单独编程的加热源温度

• · 用于三元化合物和纳米层压板的内置脉冲序列

• · 快速运行，简单的问题让用户开始

• · 输入子周期和总周期