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当前位置：德国韦氏纳米系统有限公司>>Thin Film薄膜沉积系统>>高密度化学气相沉积系统>> Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术，在惰性气体进入口安装感应线圈，周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性物质结合时，会发生化学反应，然后在衬底表面沉积一层薄膜.
该技术不需要将衬底加热到典型的PECVD温度，并且该方法非常适合沉积在有机物、柔性衬底和其它具有温度限制的表面上。
射频可通过Chuck改变薄膜性能。
该系统可以升级传送Loadlock，或添加到集群平台Cluster。
该系统可以升级传送Loadlock，或添加到集群平台Cluster。
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