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第一臺(tái) DL81/82 研磨拋光機(jī)完成安裝，助力產(chǎn)業(yè)升級(jí)

第一臺(tái)新設(shè)備DL81/82研磨拋光機(jī)完成安裝，助力產(chǎn)業(yè)升級(jí)近日第一臺(tái)新設(shè)備DL81/82研磨拋光機(jī)順利完成安裝，這一里程碑式的進(jìn)展標(biāo)志著我國(guó)在晶圓制造領(lǐng)域取得了重大突破。該設(shè)備由英國(guó)Logitech公...

CMP銅Copper工藝的開(kāi)發(fā)

擁有超過(guò)50年經(jīng)驗(yàn)的實(shí)驗(yàn)室團(tuán)隊(duì)，與客戶合作不斷開(kāi)發(fā)新的工藝，以確?？梢允褂米钚潞拖冗M(jìn)的工藝技術(shù)來(lái)幫助客戶。無(wú)論是持續(xù)進(jìn)行研發(fā)以確保我們掌握新技術(shù)和工藝知識(shí)，還是繼續(xù)開(kāi)發(fā)我們現(xiàn)有的產(chǎn)品，我們始終都在不斷...

Semicon上海半導(dǎo)體展邀請(qǐng)函

我司將參加2019Semicon上海半導(dǎo)體展，我們誠(chéng)邀您作為特邀嘉賓蒞臨參觀、洽談。展品展示：展會(huì)現(xiàn)場(chǎng)

新品推介——LP70多工位精密研磨和拋光系統(tǒng)

Logitech將推出全新的LP70多工位精密研磨和拋光系統(tǒng)。該系統(tǒng)自動(dòng)化程度高，具有創(chuàng)新的特性和功能，是需要高規(guī)格表面光潔度和平整度應(yīng)用的多晶圓加工方面的理想解決方案。LP70精密研磨和拋光系統(tǒng)將成...

EMA新品問(wèn)世-離子色譜樣品瓶

EMA元素分析耗材產(chǎn)品介紹

北京華沛智同科技發(fā)展有限公司成立2004年，致力于將國(guó)外高品質(zhì)的元素分析耗材引進(jìn)到國(guó)內(nèi)，并推薦給國(guó)內(nèi)同位素質(zhì)譜儀，C、N、O、S、H元素分析儀器使用單位，讓中國(guó)用戶使用到價(jià)廉物美，具有的元素分析耗材，...

中山大學(xué)CMP Tribo和PM6設(shè)備安裝調(diào)試順利完成

中山大學(xué)電子與信息工程學(xué)院光電材料與技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，為滿足專業(yè)人才培養(yǎng)需要，2016年底，利用國(guó)家專項(xiàng)教學(xué)資金購(gòu)置光電國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室化學(xué)機(jī)械平坦化機(jī)和研磨拋光機(jī)各一套。設(shè)備均為目前精密研磨拋光設(shè)備...

超過(guò)40年歷史的LP30 Logitech系統(tǒng)仍在運(yùn)轉(zhuǎn)

科羅拉多礦業(yè)學(xué)院一直從事地質(zhì)方面研究，他們的地質(zhì)薄片制備一直使用Logitech的LP30機(jī)器，此臺(tái)LP30機(jī)器已幫助他們制備地質(zhì)薄片超過(guò)40年。LP30是精密研磨拋光系統(tǒng)LP50的前身，在LP50面...

上海硅酸鹽所研制的兩項(xiàng)關(guān)鍵材料成功用于 “墨子號(hào)”量子衛(wèi)星

8月16日1時(shí)40分，我國(guó)在酒泉衛(wèi)星發(fā)射中心用長(zhǎng)征二號(hào)丁運(yùn)載火箭成功將世界首顆量子科學(xué)實(shí)驗(yàn)衛(wèi)星“墨子號(hào)”（簡(jiǎn)稱“量子衛(wèi)星”）發(fā)射升空。此次發(fā)射任務(wù)的圓滿成功，標(biāo)志著我國(guó)空間科學(xué)研究又邁出重要一步。中國(guó)...

新一代智能型精密研磨拋光系統(tǒng)PM6上市

英國(guó)logitech公司成立于1965年，具有*的材料表面精密加工處理領(lǐng)域的*水平。logitech公司一直致力于在半導(dǎo)體材料加工、光電器件制備、光學(xué)材料處理、地址薄片制備、材料的測(cè)試與測(cè)量及工藝探究...

化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備的優(yōu)勢(shì)有哪些？

化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備了一場(chǎng)新的拋光技術(shù)革命，單純的化學(xué)拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度...

薄片制備系統(tǒng)的用途有哪些

由透射電鏡的工作原理可知，供透射電鏡分析的樣品必須對(duì)電子束是透明的，通常樣品觀察區(qū)域的厚度以控制在約100-200nm為宜。薄片制備系統(tǒng)所制得的樣品還必須具有代表性以真實(shí)反映所分析材料的某些特征，因此...