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520HE 納米壓印-透鏡三維壓印機
  • 520HE 納米壓印-透鏡三維壓印機

貨物所在地:北京北京市

地: 奧地利

更新時間:2025-04-07 21:00:08

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( 聯(lián)系我們,請說明是在 化工儀器網 上看到的信息,謝謝?。?/p>

EVG 520HE 熱壓印系統(tǒng)用于對熱塑性基材進行高精度壓印。 EVG的這種經過生產驗證的系統(tǒng)可以接受直徑大為200 mm的基板,并且與標準的半導體制造技術兼容。

EVG 520HE 熱壓印系統(tǒng)通用生產驗證的熱壓花系統(tǒng),可滿足高要求。


技術數(shù)據(jù)

EVG520 HE半自動熱壓花系統(tǒng)設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。 EVG的這種經過生產驗證的系統(tǒng)可以接受直徑大為200 mm的基板,并且與標準的半導體制造技術兼容。熱壓花系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓花的整個聚合物范圍。結合高縱橫比壓印和多種脫壓選項,提供了許多用于高質量圖案轉印和納米分辨率的工藝。


特征

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓花和納米壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的獨立對準工藝,用于光學對準的壓印和壓印

氣動壓花選項

軟件控制的流程執(zhí)行


技術數(shù)據(jù)

加熱器尺寸150毫米200毫米

大基板尺寸150毫米200毫米

小基板尺寸單芯片100毫米

大接觸力10、20、60、100 kN

高溫度:標準:350°C;可選:550°C

粘合卡盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng):150毫米加熱器:EVG®610,EVG®620,EVG®6200

200毫米加熱器:EVG®6200,MBA300,SmartView®NT

真空:標準:0.1毫巴;      可選:0.00001 mbar


透鏡三維壓印機



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