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EVG 610 BA Bond Alignment System

EVG 610BA  鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

適用于學(xué)術(shù)界和工業(yè)研究的晶圓對(duì)晶圓對(duì)準(zhǔn)的手動(dòng)鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

EVG610鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于zui大200 mm晶片尺寸的晶片間對(duì)準(zhǔn)。 EV Group的粘結(jié)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)可通過(guò)底側(cè)顯微鏡提供手動(dòng)高精度對(duì)準(zhǔn)平臺(tái)。 EVG的鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的精度可滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中zui苛刻的對(duì)準(zhǔn)過(guò)程。

特征

zui適合EVG 501和EVG 510粘合系統(tǒng)

晶圓和基板尺寸zui大為150/200 mm

手動(dòng)高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

手動(dòng)底面顯微鏡

基于Windows 的用戶界面 的多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶，各種訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言；桌面系統(tǒng)設(shè)計(jì)，占用空間zui??；支持紅外對(duì)準(zhǔn)過(guò)程；研發(fā)和中試生產(chǎn)線的zui佳總擁有成本（TCO）；

EVG610 BA技術(shù)數(shù)據(jù)

常規(guī)系統(tǒng)配置：

桌面

系統(tǒng)機(jī)架：可選

隔振：被動(dòng)

對(duì)準(zhǔn)方法

背面對(duì)齊：±2 µm 3σ ； 透明對(duì)準(zhǔn)：±1 µm 3σ

紅外校準(zhǔn)：選件

對(duì)準(zhǔn)階段

精密千分尺：手動(dòng)；       可選：電動(dòng)千分尺

楔形補(bǔ)償：自動(dòng)