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EVG500系列键合机：EVG501

• 简介

EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和中国台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半导体制造设备的供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。

目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等   域。

EVG公司是世界上顶jian的基片键合设备制造商，其键合工艺被认定为MEMS   域的标准工艺。EVG键合系统可实现阳极键合、热压键合、中间层粘着键合、 玻璃浆料键合、硅-硅直接键合、共晶键合及SOI键合等所有键合工艺。EVG键合设备型号齐全，从手动装片系统到全自动片盒送片多工艺室系统，可以满足不同客户的应用要求。无论手动/半自动装片系统， 键合工艺全部自动完成；而且，*的基片夹具及键合室结构设计，可实现高精度的圆片键合；此外上/下极板为独立分别加热控制，   大加热温度可达650度。

EVG501是一款主要用于研发的高度灵活的键合系统，既可以处理很小的碎片也可以处理200mm的晶圆?？梢灾С指髦中问降募?，如阳极键合、玻璃焊料键合、共晶、扩散、融合、焊接和粘结键合；也可以支持其他热处理过程如氧化物移除和高温烘烤等。EVG501在夹具更换时非常方便，更换时间一般不超过5分钟，大大减少了客户的操作时间和培训费用，因此EVG501是一款非常适合研发和小量生产的设备。

二、应用范围

主要应用于MEMS制造、微流体芯片、化合物半导体的薄片处理、晶圆级先进封装以及3D互联、TSV工艺等。

三、主要特点

1.    大化降低客户总拥有成本（TCO）
2.    高键合温度450度，压力10KN
3. 的硅片低压契型补偿系统以提高良率
4. 温度均匀性： <+/- 1% ；压力均匀性：<+/- 5%
5. 工艺菜单与其他键合系统通用
6. 高真空度键合腔室 (可低至 10^-5 mbar，使用分子泵)
7. 开放式腔室设计便于快速转换和维护
8. 基于Windows 的控制软件和操作界面
9.    小化占地占地面积--- 200 mm键合系统占地 0.88 m²

四、技术参数

纳米压印设备之紫外纳米压?。篍VG600系列

• 简介

EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和中国台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半导体制造设备的供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。

目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等    域。

EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专li的极其优异的对准技术和世界    先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。

EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG*的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。

二、应用范围

纳米压印技术主要应用于如下方面：

LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。

三、主要特点

1. 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；
2. 紫外光曝光；
3. 配备的紫外纳米压印工具；
4. 适于软或硬印章压?。?/span>
5. 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；