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AP-1000等離子清洗系統(tǒng)

一、功能簡(jiǎn)介：

在微電子加工過(guò)程中，特別是在芯片貼裝和絲線(xiàn)鍵合的過(guò)程中，需要對(duì)表面輕微有機(jī)污染或氧化物進(jìn)行清洗，在這種場(chǎng)合下，需要用等離子清洗的方法進(jìn)行清洗。美國(guó)MARCH 公司的等離子清洗設(shè)備在以下器件的制造過(guò)程中能起到很好地清洗作用：光電器件、微波器件、混合電路、MEMS器件、RF模塊、功率器件、傳感器、半導(dǎo)體器件、LED、分立元器件、納米器件、聲表器件。

特征優(yōu)勢(shì)：

觸摸屏的PLC控制，提供了形象的圖形界面和實(shí)時(shí)過(guò)程顯示；

靈活的支架結(jié)構(gòu)允許處理多種部分，在水平或豎直模式下；

13.56MHz的電源具有自動(dòng)阻抗匹配功能，因此具有出色的過(guò)程重復(fù)性；

專(zhuān)li的控制軟件系統(tǒng)為統(tǒng)計(jì)過(guò)程控制產(chǎn)生過(guò)程和產(chǎn)品的數(shù)據(jù)；

March AP-1000等離子清洗系統(tǒng)，是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)適應(yīng)24小時(shí)生產(chǎn)的嚴(yán)格要求的情況。此系統(tǒng)提供統(tǒng)一的等離子體，具有優(yōu)良的可靠性、安全性及操作簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)。

AP-1000平臺(tái)是*獨(dú)立的，因此要求小的層空間。泵、處理腔體、電子控制和13.56MHz電源供應(yīng)都被安裝在一個(gè)單一的外殼內(nèi)。前面開(kāi)門(mén)使得存取組件都很便利。泵安裝在便于拆卸的滾筒上。

帶有HTP （高吞吐量）架選項(xiàng)的AP-1000等離子系統(tǒng)結(jié)合了可靠性和生產(chǎn)品質(zhì)，證明March 專(zhuān)li的HTP架的優(yōu)勢(shì)。AP-1000 HTP優(yōu)化在RF激勵(lì)源產(chǎn)生的離子的應(yīng)用，使在減少過(guò)程時(shí)間的時(shí)候，提高處理的*性。

AP-1000 HTP允許選擇一系列工藝氣體，例如氬氣、氫氣和氦氣等。它裝備4個(gè)質(zhì)量流量控制器以達(dá)到jia的工藝氣體控制。

帶有槽的M/G制具垂直安裝在處理腔體中。出色的是，每塊M/G制具可小支撐20個(gè)框架。處理腔體多可裝12個(gè)M/G制具，這有M/G制具的尺寸決定。