EVG^®7200 LA

Large-Area SmartNIL^® UV Nanoimprint Lithography System

EVG®7200LA  大面積SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)

大面積的共形納米壓印光刻

技術(shù)數(shù)據(jù)

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù)，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的有效的方法，因為它不受光學(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為小的結(jié)構(gòu)提供佳的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強(qiáng)大且可控的加工工藝，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借*且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能（包括的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。

*分辨率取決于過程和模板

特征

專有的SmartNIL®技術(shù)可在大面積區(qū)域提供的共形烙印

經(jīng)過驗證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本

強(qiáng)大且可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容

EVG7200LA技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米以下直至Gen3（550 x 650毫米）

解析度：40 nm-10 µm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL®

曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm²）

對準(zhǔn)：可選的光學(xué)對準(zhǔn)：≤±15 µm

自動分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的